可送检的样品类型与对应检测项目
| 样品类型 | 典型应用场景 | 主要检测项目 | 常用方法 / 参考 |
|---|---|---|---|
| 高纯氧化钇(2N~5N) | 荧光材料、激光晶体、光学镀膜原料的验收与出厂分级 | 稀土氧化物总量、14项稀土杂质、非稀土杂质(铁钙硅铝铜镍铅)、灼减量 | GB/T 3503-2015《氧化钇》;GB/T 14635-2020稀土总量;GB/T 12690系列非稀土杂质 |
| 荧光级氧化钇铕 | 灯用三基色荧光粉、显示与LED荧光材料配料 | 氧化铕含量、稀土杂质配分、灼减量、粒度分布 | GB/T 16482-2009《荧光级氧化钇铕》;GB/T 18116.1-2012 ICP法;GB/T 18116.2-2008氧化铕量 |
| 结构陶瓷与电子陶瓷级氧化钇 | 氧化锆增韧陶瓷稳定剂、氮化硅烧结助剂、电子基片配料 | 粒度分布D10/D50/D90、比表面积、松装密度、灼减量 | GB/T 19077-2024激光衍射法;GB/T 19587-2017 BET法;GB/T 20170.2-2006稀土化合物比表面积 |
| 热喷涂用氧化钇粉体 | 等离子喷涂热障涂层、耐高温耐磨涂层原料 | 粒度区间、流动性、杂质元素、水分含量 | GB/T 19077-2024;GB/T 12690.3-2015水分重量法;GB/T 12690.10-2003磷量 |
| 催化剂载体及抛光粉级氧化钇 | 石油化工催化剂、精密光学元件抛光配料 | 比表面积、氟量、磷量、粒度分布 | GB/T 20170.2-2006;GB/T 12690.16-2010氟量离子选择电极法;GB/T 19077-2024 |
| 特种光源与核工业级氧化钇 | 陶瓷金属卤化物灯管、耐腐蚀坩埚、核工业陶瓷部件 | 稀土杂质谱、痕量钍铀等元素、灼减量、物相组成 | GB/T 14635-2020;ICP-MS痕量分析;X射线衍射物相分析 |
检测项目
1. 稀土氧化物(REO)总量:2N级不低于99.0%,3N级不低于99.9%,4N级不低于99.99%,5N级不低于99.999%,按牌号分级判定
2. 稀土杂质单项:4N级氧化钇中镧、铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥等14项稀土杂质单项限值0.005%~0.01%,ICP-MS测定
3. 非稀土杂质:三氧化二铁、氧化钙、二氧化硅、三氧化二铝、氧化铜、氧化镍、氧化铅等单项限值0.001%~0.005%,ICP-OES或原子吸收法测定
4. 灼减量:1000℃灼烧1小时,普通级不大于1.0%,高纯级不大于0.5%,重量法测定
5. 粒度与比表面积:D50典型0.5~6μm(激光衍射法),BET比表面积典型3~25m²/g
检测范围
1. 高纯氧化钇:2N、3N、4N、5N等纯度等级的粉体及造粒料
2. 荧光级氧化钇铕:灯用及显示用荧光级共沉淀氧化物
3. 陶瓷级氧化钇:氧化锆陶瓷稳定剂用、氮化硅烧结助剂用微米粉体
4. 热喷涂粉体:等离子喷涂用团聚烧结型、熔融破碎型氧化钇粉
5. 特种应用级:抛光粉、催化剂载体、光学镀膜蒸发料、陶瓷坩埚原料
检测方法
1. GB/T 3503-2015 氧化钇(产品分级、化学成分与理化要求)
2. GB/T 14635-2020 稀土金属及其化合物化学分析方法 稀土总量的测定
3. GB/T 18116.1-2012 氧化钇铕化学分析方法 第1部分:稀土杂质氧化物含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
4. GB/T 12690.2-2015 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第2部分:稀土氧化物中灼减量的测定 重量法
5. GB/T 19587-2017 气体吸附BET法测定固态物质比表面积
6. GB/T 19077-2024 粒度分析 激光衍射法
检测设备
1. 电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS):稀土痕量杂质检出限达ng/L级,支持14项稀土元素同步扫描
2. 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES):波长范围165~800nm,非稀土杂质常规分析
3. 高温马弗炉:室温~1200℃程序升温,控温精度±1℃,用于灼减量测定
4. 激光粒度仪:测量范围0.02~3500μm,干法/湿法双分散系统
5. 比表面积及孔径分析仪:BET法,比表面积量程0.0005~2000m²/g,孔径0.35~500nm
6. 微量电子天平:读数精度0.01mg,满足重量法称量要求
7. X射线荧光光谱仪(XRF):元素范围钠~铀,快速筛查主次成分
8. X射线衍射仪(XRD):物相与晶型鉴定,2θ角范围0.5~140°
9. 原子吸收光谱仪:火焰/石墨炉双模式,钙、镁、钠等杂质测定
10. 氟离子选择电极装置:配套离子计与电磁搅拌器,氟量测定检出下限约0.5mg/kg