检测项目

1.主量元素分析：硅含量，锗含量，砷含量，镓含量，铟含量，磷含量。

2.掺杂元素分析：硼含量，磷含量，砷含量，锑含量，镓含量，铝含量。

3.痕量金属杂质分析：铁含量，铜含量，镍含量，铬含量，钠含量，钾含量。

4.非金属杂质分析：氧含量，碳含量，氢含量，氮含量，硫含量，氯含量。

5.重金属元素分析：铅含量，镉含量，汞含量，砷含量，铬含量，镍含量。

6.稀有元素分析：铟含量，镓含量，锗含量，硒含量，碲含量，铪含量。

7.表面污染元素分析：钠污染，钾污染，钙污染，铁污染，铜污染，锌污染。

8.薄膜成分分析：膜层元素组成，元素含量比例，层间元素分布，界面元素富集，膜厚相关成分变化。

9.深度分布分析：表层元素分布，亚表层元素分布，掺杂深度分布，杂质渗入深度，界面元素梯度。

10.微区元素分析：局部区域成分测定，缺陷点元素识别，颗粒物成分分析，夹杂物元素分析，微区污染源排查。

11.均匀性分析：面内元素均匀性，批次成分一致性，膜层成分均匀性，掺杂均匀性，局部偏析分析。

12.失效相关元素分析：异常区域元素筛查，腐蚀产物成分分析，迁移元素识别，残留物元素分析，裂纹区成分排查。

检测范围

硅片、外延片、晶圆、半导体粉体、半导体靶材、薄膜材料、光刻胶残留物、刻蚀残留物、芯片封装材料、引线框架、焊料、键合丝、绝缘层材料、导电层材料、化合物半导体材料、单晶材料、多晶材料、抛光液残留物、清洗液残留物、电子特气沉积产物

检测设备

1.电感耦合等离子体发射光谱仪：用于测定半导体材料中多种元素的含量，适合主量元素和部分杂质元素的定量分析。

2.电感耦合等离子体质谱仪：用于痕量及超痕量元素分析，适合高纯半导体材料中杂质元素的灵敏检测。

3.原子吸收光谱仪：用于特定金属元素的定量测定，可对常见杂质金属进行分析。

4.原子荧光光谱仪：用于部分特征元素的高灵敏检测，适合低含量元素的专项分析。

5.波长色散型荧光光谱仪：用于固体样品无机元素组成分析，适合主量及次量元素的快速筛查。

6.能量色散型荧光光谱仪：用于样品表面及整体元素的快速检测，适合来料筛查与成分初步判定。

7.扫描电子显微镜：用于观察样品表面形貌，可结合微区分析功能开展局部区域元素识别。

8.电子探针微区分析仪：用于微小区域元素定性与定量分析，适合夹杂物、偏析区和界面区域检测。

9.二次离子质谱仪：用于分析样品表面及深度方向的元素分布，适合掺杂分布和痕量污染研究。

10.辉光放电质谱仪：用于高纯固体材料中的痕量杂质元素分析，适合半导体基材纯度评价。