检测项目

化学成分分析：

• 金属杂质总量：Fe、Cr、Ni、Cu、Zn含量（≤0.5ppm，参照SEMI PV17）
• 非金属杂质：氧含量（≤30ppm）、碳含量（≤3ppm）
• 施主/受主杂质：磷（≤0.15ppb）、硼（≤0.05ppb）

• 粒径分布：D10≥1μm、D50=2-8μm、D90≤20μm（ISO 13320）
• 振实密度：≥0.8g/cm³（GB/T 5162）
• 比表面积：1.0-3.5m²/g（BET法，ASTM D3663）

• 体电阻率：≥1000Ω·cm（四探针法，SEMI MF84）
• 少子寿命：≥100μs（微波光电导衰减，GB/T 26071）

• 有机残留物：总烃含量≤10ppm（GC-MS，ISO 11890）
• 颗粒吸附水：≤50ppm（卡尔费休法，GB/T 6283）

• 晶相纯度：单晶硅占比≥99%（XRD，JCPDS 27-1402）
• 位错密度：≤1000/cm²（蚀坑法，GB/T 1555）

• 熔融特性：熔点1410±2℃（DSC，ASTM E793）
• 热膨胀系数：2.6×10⁻⁶/K（20-800℃）

• 颗粒球形度：≥0.85（动态图像分析，ISO 13322-2）
• 表面粗糙度：Ra≤0.1μm（SEM二次电子成像）

• 挥发性杂质：HCl≤1ppm、CH₄≤0.5ppm（TDS-GC，SEMI C3.39）

• 铀/钍含量：≤0.01ppb（高纯锗γ谱仪，IEC 61788）

• 休止角：≤35°（粉末流动性测试仪，ISO 4324）
• 压缩度：≤20%（PTR-RTE系统）

检测范围

1. 太阳能级多晶硅粉： 满足GB/T 25076标准，重点监控Fe/Al/Ca等金属杂质及粒径分布均匀性

2. 电子级多晶硅粉： 执行SEMI C28标准，核心检测硼磷含量及铀/钍放射性核素

3. 流化床法硅烷裂解粉： 侧重球形度（≥0.92）及表面氯化物残留（≤3ppm）

4. 冶金法提纯硅粉： 重点控制B/P含量梯度及碳化硅夹杂物（≤0.1wt%）

5. 3D打印用硅粉： 要求D90≤15μm且粒径分布跨度＜1.2（ISO 13320）

6. 纳米硅复合负极材料： 检测比容量（≥2000mAh/g）及首次库伦效率（≥85%）

7. 硅碳负极前驱体： 监控碳包覆层厚度（5-20nm）及界面结合状态

8. 高纯硅溶胶原料： 检测胶体稳定性（Zeta电位≥|30|mV）及钠钾含量（≤50ppb）

9. 有机硅单体合成粉： 重点分析氯硅烷残留（≤100ppm）及催化金属含量

10. 半导体封装填料： 要求α射线发射率≤0.02cph/cm²及热导率≥120W/mK

检测方法

国际标准：

• SEMI PV17-0612 光伏级硅粉金属杂质测试规范
• ASTM E122-17 粒径分布统计精度控制方法
• ISO 13320:2020 激光衍射法粒度分析通则
• IEC 62108:2016 聚光光伏用硅材料电学特性
• JIS R 1622:1995 硅粉比表面积测定方法

• GB/T 26071-2010 硅粉少子寿命测试规程
• GB/T 24583.2-2019 钒钛磁铁矿提硅粉杂质检测
• GB/T 37049-2018 电子级多晶硅粉痕量元素分析
• GB/T 5162-2021 金属粉末振实密度测定
• GB/T 14837-2018 工业硅化学分析方法

检测设备

1. 高分辨电感耦合等离子体质谱仪： Agilent 8900型（检测限0.1ppt，质量范围2-260amu）

2. 傅里叶变换红外光谱仪： Bruker VERTEX 80v（分辨率0.1cm⁻¹，液氮冷却MCT检测器）

3. 激光粒度分析仪： Malvern Mastersizer 3000（测量范围0.01-3500μm，干湿法双模）

4. 低温光电导衰减测试仪： Semilab WT-2000（温度范围77-400K，微波频率10GHz）

5. 场发射扫描电镜： Zeiss GeminiSEM 500（分辨率0.8nm@15kV，EDS能谱分辨率124eV）

6. X射线衍射仪： Rigaku SmartLab SE（2θ精度±0.0001°，高温附件1600℃）

7. 全自动比表面及孔隙度分析仪： Micromeritics ASAP 2460（比表测量范围0.0005m²/g以上）

8. 四探针电阻率测试仪： Lucas Labs PRO4-440N（量程0.001-10000Ω·cm，恒流源±1%）

9. 同步热分析仪： Netzsch STA 449 F5（TG分辨率0.1μg，DSC噪声水平0.1μW）

10. 气相色谱-质谱联用仪： Thermo Scientific ISQ 7000（质量精度0.1ppm，扫描速度20,000amu/sec）

11. 高纯锗γ谱仪： Canberra GX6020（相对效率60%，能量分辨率1.7keV）

12. 动态图像分析仪： Retsch CAMSIZER X2（测量速度270帧/秒，形态参数库＞30项）

13. 卡尔费休水分测定仪： Metrohm 917 Coulometric（检测限0.1μg H₂O，电解电流400mA）

14. 粉末流动性测试仪： Freeman FT4 Powder Rheometer（螺旋桨扭矩精度0.1mNm）

15. 全自动密度分析仪： Micromeritics AccuPyc II 1340（体积分辨率0.03%，气体纯度99.999%）

北检(北京)检测技术研究院【简称：北检院】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

　　以上是与多晶硅粉末检测相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。