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四氟化硅检测

  • 原创官网
  • 2025-06-03 18:17:28
  • 关键字:四氟化硅测试范围,四氟化硅测试机构,四氟化硅测试周期
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四氟化硅检测概述:四氟化硅检测专注于高纯度气体分析,核心检测对象为SiF4气体及其衍生物,涉及痕量杂质识别、物理化学性质测试。关键项目包括纯度≥99.99%、水分含量≤0.001ppm、金属杂质(如Fe, Cu)≤0.1ppm、气体密度(2.1-2.3g/L)、沸点(-86°C偏差±0.5°C)、稳定性评估及腐蚀性测试,确保符合电子工业和化工应用标准,支持半导体制造和光纤生产质量控制。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

纯度分析:

  • 主成分含量:SiF4纯度≥99.99%(参照ASTME260),氟硅比(F/Si)1:1±0.01
  • 水分检测:H2O含量≤0.001ppm(露点≤-76°C)
痕量杂质检测:
  • 金属杂质:Fe≤0.1ppm、Cu≤0.05ppm(ICP-MS法)
  • 非金属杂质:O2≤5ppm、N2≤3ppm、CO2≤2ppm
物理性质测试:
  • 密度测定:2.1-2.3g/L(25°C,±0.01g/L偏差)
  • 沸点与蒸汽压:沸点-86°C±0.5°C,蒸汽压≥100kPa(20°C)
化学稳定性评估:
  • 反应性测试:与H2O反应速率≤0.01%/min,酸度(pH)≥5.0
  • 氧化稳定性:在空气中分解率≤0.1%/h
气体成分分析:
  • 四氟化硅占比:≥99.5%(GC法),其他氟化物(如SiF6)≤0.3%
  • 残留溶剂:甲醇≤1ppm、乙醇≤0.5ppm
腐蚀性检测:
  • 金属腐蚀速率:对不锈钢≤0.01mm/年(ASTMG31)
  • 非金属影响:对橡胶溶胀率≤5%
毒性及安全测试:
  • 暴露限值:TLV≤1ppm(OSHA标准),LD50≥5000mg/m³
  • 可燃性:闪点无,爆炸极限≥15%vol
粒子与残留物:
  • 粒子计数:≥0.1μm颗粒≤100个/m³
  • 固体残留:灰分≤0.001wt%
环境适应性:
  • 温度稳定性:-40°C至50°C存储无相变
  • 压力测试:耐压≥1.5MPa,泄漏率≤0.01%/h
应用性能验证:
  • 半导体沉积速率:≥10nm/min(参照SEMI标准)
  • 光纤传输损耗:≤0.2dB/km(应用测试)

检测范围

1.电子级四氟化硅:用于半导体晶圆沉积,重点检测痕量金属杂质和纯度≥99.999%,确保无粒子污染。

2.工业用四氟化硅:化工合成原料,侧重水分含量≤0.01ppm和反应性控制,防止副产物生成。

3.气体混合物(如SiF4/Ar):惰性载体应用,检测混合比例(SiF410-90%±0.1%)和均匀性。

4.存储与运输容器:钢瓶或管道系统,重点测试泄漏率≤0.005%/h和材料兼容性。

5.反应过程副产物:如氟化工艺残留,检测未反应SiF4≤0.5%和有害杂质去除效果。

6.环境空气样本:工作场所监测,侧重SiF4浓度≤1ppm和安全暴露限值验证。

7.原料供应商批次:进厂检验,确保Fe≤0.05ppm和水分≤0.001ppm,符合供应链标准。

8.最终产品出厂:成品气体灌装,检测纯度≥99.99%和压力稳定性。

9.回收再生四氟化硅:废物处理再利用,重点杂质累积(如O2≤10ppm)和净化效率。

10.特殊应用气体(如光纤预制棒):高纯度要求,侧重传输损耗测试和粒子控制≤50个/m³。

检测方法

国际标准:

  • ASTMD1945-14气相色谱法气体成分分析
  • ISO6142:2015气体混合物制备与验证
  • ASTME29-22痕量杂质统计方法
  • ISO8573-1:2010压缩空气污染物检测
  • SEMIC3.30-1108电子气体纯度测试
国家标准:
  • GB/T14850-2019工业气体分析方法通则
  • GB/T3723-2023工业用化学产品采样安全通则
  • GB/T5832.1-2016气体中微量水分测定方法
  • GB/T20123-2023钢铁中多元素含量的测定
  • GB/T16157-2023固定污染源排气中颗粒物测定
方法差异说明:如ASTMD1945使用毛细管色谱柱,而GB/T14850采用填充柱技术,导致分离效率不同;ISO6142要求多点校准,GB/T5832.1侧重电解法水分检测,精度差异±0.001ppm;SEMI标准针对电子应用,比GB/T更严格于痕量金属限值。

检测设备

1.气相色谱仪:Agilent8890型(检测限0.01ppm,柱温范围-50°C至400°C)

2.电感耦合等离子体质谱仪:PerkinElmerNexION5000型(质量范围1-300Da,精度±0.001ppm)

3.微量水分分析仪:MettlerToledoC30型(露点检测范围-100°C至20°C,精度±0.1°C)

4.气体密度计:AntonPaarDMA4500型(密度范围0-3g/cm³,分辨率0.0001g/cm³)

5.质谱联用系统:ThermoScientificISQ7000型(GC-MS联用,扫描速度10Hz)

6.粒子计数器:LighthouseSOLAIR3100型(粒径检测0.1-5μm,流量2.83L/min)

7.腐蚀测试仪:Cortest动态高压釜(压力范围0-10MPa,温度-20°C至200°C)

8.稳定性试验箱:BinderMKF系列(温控范围-40°C至150°C,湿度10-95%RH)

9.气体泄漏检测仪:INFICONHLD6000型(灵敏度0.01g/a,氦气示踪)

10.紫外可见分光光度计:ShimadzuUV-2600型(波长范围190-900nm,带宽1nm)

11.压力与流量校准器:Fluke71730G型(压力范围0-10bar,精度±0.05%FS)

12.电化学分析仪:Metrohm910型(pH/电导率测量,分辨率0.001)

13.热分析仪:NETZSCHSTA449F3型(TG-DSC联用,温度范围-150°C至1600°C)

14.气体纯化系统分析仪:EntegrisGPX系列(净化效率≥99.99%,流量0.1-10L/min)

15.安全暴露测试设备:OHD环境仓(浓度控制0-1000ppm,符合ACGIH标准)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与四氟化硅检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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