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晶脆间界检测

  • 原创官网
  • 2025-03-12 15:41:42
  • 关键字:晶脆间界测试周期,晶脆间界测试方法,晶脆间界测试案例
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晶脆间界检测概述:晶脆间界检测是评估材料晶界结构稳定性的关键环节,重点涵盖晶界形貌、元素偏析、界面能及力学性能等参数。检测过程需结合电子显微分析、能谱测试及力学模拟技术,适用于半导体、高温合金等材料的失效分析及工艺优化,确保检测数据符合ASTM、ISO等国际标准与GB/T国内规范。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

晶界密度:测量单位面积晶界数量(单位:条/mm²,范围:10²-10⁴)

元素偏析系数:分析晶界区域主元素与杂质浓度比(精度:±0.1 at%)

取向差角:测定相邻晶粒间晶体学取向偏差(角度范围:2°-62.8°,误差≤0.5°)

裂纹扩展阈值:记录晶界开裂临界应力强度因子(单位:MPa·m¹/²,分辨率0.1)

界面能计算:基于原子尺度模拟的晶界能量值(单位:J/m²,精度±5%)

检测范围

半导体材料:单晶硅片、GaN外延层、SiC晶圆

高温合金:镍基超合金涡轮叶片、钴基耐热部件

纳米晶材料:超细晶粒金属板材(晶粒尺寸≤100nm)

功能陶瓷:氧化锆结构件、氮化铝基板

金属间化合物:TiAl基合金、Ni3Al涂层

检测方法

电子背散射衍射(EBSD):ASTM E2627-19,GB/T 36421-2018

透射电子显微镜分析:ISO 25498:2018,GB/T 27788-2020

原子探针层析技术:ISO 21368:2020,ASTM E3057-22

纳米压痕测试:ISO 14577-4:2016,GB/T 22458-2008

同步辐射X射线衍射:ISO 21466:2019,ASTM E3408-23

检测设备

场发射扫描电镜:蔡司Sigma 300,配备Oxford Symmetry EBSD系统

球差校正透射电镜:FEI Titan Themis Z,配备SuperX能谱仪

激光辅助原子探针:CAMECA LEAP 5000XR,空间分辨率0.3nm

高温纳米力学测试系统:Hysitron TI Premier,温度范围-150~1200℃

同步辐射微区衍射站:上海光源BL14B1线站,光斑尺寸≤1μm

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与晶脆间界检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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