晶体取向偏差角:±0.5°精度
晶界类型分类:小角度(2°-15°)、大角度(>15°)
菊池带分辨率:≤0.1μm(空间分辨率)
位错密度计算:10⁶-10¹² cm⁻²范围
织构系数测定:ODF最大强度值≥5
金属材料:铝合金、钛合金、高温合金
半导体材料:单晶硅、GaN、SiC晶圆
陶瓷材料:氧化锆、氮化铝、碳化硅
复合材料:金属基/陶瓷基层状材料
高分子材料:液晶聚合物、取向薄膜
ASTM E2627:电子背散射衍射(EBSD)标准
ISO 24173:菊池花样标定规程
GB/T 41076:晶体取向测定通用方法
ASTM E3-11:金相试样制备规范
GB/T 13298:金属显微组织检验方法
扫描电子显微镜:蔡司Sigma 500,搭配Oxford Instruments Symmetry EBSD探测器
EBSD探测器:EDAX Hikari Super,分辨率≤0.04μm,采集速度≥3000点/秒
样品制备系统:Struers Tegramin-30自动磨抛机,粒度0.02μm金刚石悬浮液
离子束抛光仪:Hitachi IM4000Plus,加速电压0.5-6kV可调
分析软件:TSL OIM Analysis 8.0,支持HCP/BCC/FCC结构解析
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与菊池带检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。