碘化硅检测

检测项目

纯度检测：主成分含量≥99.5%（SiI₄）

水分含量：≤50ppm（卡尔费休法）

金属杂质：Fe≤5ppm、Al≤3ppm、Ni≤2ppm（ICP-MS）

粒径分布：D50=1-5μm（激光粒度分析）

热稳定性：TG-DSC检测（分解温度≥200℃）

检测范围

电子级碘化硅（半导体制造用）

医药中间体（有机合成原料）

光学镀膜材料（红外透镜涂层）

化学气相沉积（CVD）前驱体

纳米复合材料添加剂

检测方法

纯度测定：GB/T 23942-2009《化学试剂 电感耦合等离子体质谱法》

水分检测：ISO 760-1978《卡尔费休法测定水分》

金属分析：ASTM E1479-16《ICP-MS测定痕量元素》

粒度测试：GB/T 19077-2016《激光衍射法粒度分析》

热分析：ISO 11358-2021《塑料 聚合物TG-DSC检测》

检测设备

Agilent 7900 ICP-MS：痕量金属元素分析（检出限0.1ppb）

METTLER Toledo C20卡尔费休水分仪：精度±3ppm

Malvern Mastersizer 3000：0.01-3500μm粒径测量

NETZSCH STA 449 F5：同步热分析（-150℃~2000℃）

PerkinElmer PinAAcle 900T原子吸收光谱仪：特定元素定量分析