荧光强度分布:测量相对强度百分比(0-100%),误差范围≤±2%
量子产率测定:计算绝对量子产率(Φ≥0.8为合格基准)
激发/发射光谱扫描:波长范围200-800nm,分辨率0.1nm
荧光寿命分析:时间分辨率≤100ps,测量范围0.1ns-10ms
缺陷密度计算:基于猝灭效应评估缺陷浓度(单位:cm⁻³)
半导体材料:GaN、SiC等宽禁带半导体晶片
光学薄膜:AR镀膜、干涉滤光片等光学涂层
生物样本:蛋白质标记物、细胞染色切片
高分子材料:聚合物薄膜/纤维的结晶缺陷
纳米材料:量子点尺寸分布与表面态分析
ASTM E2143-18:荧光强度标准测试方法
ISO 11371:2021:时间分辨荧光光谱技术规范
GB/T 32672-2016:量子产率积分球测定法
ASTM E388-18:光谱带宽校准规程
GB/T 39491-2020:荧光寿命成像技术通则
HORIBA Fluorolog-QM稳态/瞬态荧光光谱仪:支持0.1nm光谱分辨率与TCSPC技术
Edinburgh Instruments FLS1000光致发光谱仪:配备液氮冷却PMT探测器(185-1700nm)
PerkinElmer LS55发光光谱仪:具备三维扫描与磷光测量功能
Hamamatsu C11347量子产率测量系统:集成150mm积分球组件
PicoQuant FluoTime300时间分辨系统:时间相关单光子计数模块(IRF<50ps)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"荧光缺陷检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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