表面形貌分析:分辨率≤1nm(SEM)/0.1nm(TEM),放大倍数10-1,000,000X
元素成分分析:EDS探测器能量分辨率≤127eV,元素探测范围B5-U92
晶体结构表征:选区电子衍射(SAED)精度±0.01°,晶面间距测量误差<2%
断面/截面分析:离子束切割精度±50nm(FIB-SEM联用)
三维重构分析:层析成像切片厚度≤5nm(ET-TEM)
金属材料:晶界腐蚀、疲劳断口、焊接缺陷(孔隙率≤0.1%)
半导体器件:芯片线宽测量(10-100nm)、界面扩散层厚度分析
生物样品:细胞超微结构观察(固定后脱水处理)
高分子材料:共混相区尺寸分布(0.1-10μm)
纳米材料:粒径统计(1-100nm)、分散性评估
ASTM E1508-2012 电子显微镜能谱仪校准规范
ISO 16700:2016 SEM图像分辨率验证方法
GB/T 27788-2020 微束分析扫描电镜图像放大倍率校准
GB/T 23414-2020 微束分析薄晶体试样的TEM选区衍射方法
ISO 21363:2020 纳米颗粒尺寸分布的TEM测定法
场发射扫描电镜:蔡司Sigma 500(分辨率0.8nm@15kV),配备牛津X-MaxN 150 EDS探测器
透射电子显微镜:FEI Tecnai G2 F20(点分辨率0.24nm),配备Gatan Orius SC1000 CCD相机
双束系统:Thermo Scientific Helios G4 UX(FIB束流1pA-65nA),集成OmniProbe纳米操纵器
环境扫描电镜:FEI Quanta 650 FEG(低真空模式10-4000Pa),配备EBSD系统
冷冻电镜:日立HF5000 Cryo-TEM(液氮冷却至-196℃),配备直接电子探测器
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与电镜检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。