膜层厚度:测量范围50nm-50μm,精度±1nm(台阶仪法)
元素成分分析:元素含量检测精度0.1at%,深度分辨率≤5nm(XPS)
晶体结构表征:晶格常数测量误差≤0.001Å(XRD)
表面粗糙度:Ra值测量范围0.1-100nm(AFM)
附着力强度:临界载荷测试范围0.1-50N(划痕仪)
半导体材料:硅基/碳化硅外延层
光学薄膜:TiO₂/SiO₂多层镀膜
金属涂层:钨/钼耐高温镀层
陶瓷涂层:Al₂O₃/TiN防护镀层
聚合物涂层:聚对二甲苯生物医用镀层
ASTM F3093-14 CVD钨膜厚度测试标准
ISO 14707:2015 辉光放电光谱成分分析法
GB/T 16535-2008 化学气相沉积碳化硅涂层检验规范
ISO 26423:2016 CVD金刚石膜摩擦系数测定
GB/T 17359-2012 电子探针显微分析通则
台阶仪:KLA Tencor P-7,垂直分辨率0.1Å
X射线光电子能谱仪:Thermo Scientific K-Alpha,单色Al Kα源
高分辨X射线衍射仪:Bruker D8 Discover,Cu靶Kα辐射
原子力显微镜:Bruker Dimension Icon,扫描范围90μm×90μm
纳米压痕仪:Keysight G200,载荷分辨率50nN
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与化学气相沉积检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。