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二次离子检测

  • 原创官网
  • 2025-03-17 11:06:59
  • 关键字:二次离子测试周期,二次离子测试案例,二次离子测试方法
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二次离子检测概述:二次离子检测是通过离子束轰击样品表面,对溅射出的二次离子进行质谱分析的技术,广泛应用于材料科学、半导体及环境监测等领域。其核心在于高灵敏度元素分析、深度剖析及表面成像能力,需严格遵循国际标准方法并匹配高精度设备,确保痕量元素定性与定量结果的可靠性。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

表面元素分析:检测限达0.1 ppm,空间分辨率≤100 nm

深度剖面分析:纵向分辨率<5 nm,最大探测深度50 μm

同位素比值测定:精度±0.005%,质量分辨率>10,000

有机成分表征:分子量范围50-2000 Da,质量精度<2 ppm

界面污染检测:可识别单层污染物厚度≥0.3 nm

检测范围

半导体材料:硅片、GaN衬底、光刻胶残留物

金属合金:钛合金表面氧化层、高温涂层成分梯度

陶瓷材料:燃料电池电解质层、压电陶瓷掺杂分布

生物医学材料:植入物表面改性层、药物缓释膜结构

环境颗粒物:PM2.5组分溯源、微塑料表面吸附物

检测方法

ASTM E1504-2018:静态二次离子质谱表面分析标准指南

ISO 18114:2021:次级离子质谱法深度剖析校准规范

GB/T 32281-2015:半导体材料二次离子质谱分析方法

ISO 22048:2020:静态SIMS图像数据格式标准化规范

GB/T 40129-2021:表面化学分析-次级离子质谱-强度标的重复性测定

检测设备

ION-TOF TOF.SIMS 5:配备30 keV Bi3+团簇离子源,质量分析器飞行时间分辨率Δt/t<0.02%

CAMECA IMS 7f-Auto:双聚焦磁质谱仪,质量分辨率M/ΔM≥20,000@m/z=28

ULVAC-PHI nanoTOF II:脉冲电子中和系统支持绝缘样品直接分析

Hiden Analytical SIMS Workstation:集成气体簇离子枪(GCIB),可进行有机材料无损深度剖析

Thermo Scientific Neoma MC-SIMS:多接收器系统实现同位素比值精确测定(δ值精度±0.3‰)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与二次离子检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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