堆垛层错析出检测

检测项目

1.堆垛层错密度测定：测量单位体积内层错面密度（cm⁻）

2.层错分布特征分析：统计不同取向晶粒内层错占比（%）

3.层错尺寸统计：测量单个层错长度（10-500nm）及宽度（0.1-5nm）

4.层错界面结构表征：测定不全位错柏氏矢量（b=1/6<112>型）

5.层错应力场分析：计算局部晶格畸变度（Δd/d≤3%）

检测范围

1.金属材料：铝合金（AA6061）、奥氏体不锈钢（304L）、高熵合金（CoCrFeMnNi）

2.半导体材料：硅晶片（<111>取向）、GaN外延层

3.陶瓷材料：氧化锆（3Y-TZP）、碳化硅纤维

4.复合材料：钛基复合材料（TiBw/Ti）、镁基复合材料（AZ31/Al₂O₃）

5.纳米材料：铜纳米线（直径50nm）、金纳米颗粒（粒径10nm）

检测方法

1.ASTME112-13：晶粒度测定中的层错密度计算方法

2.ISO24173:2009：电子背散射衍射（EBSD）分析层错取向

3.GB/T13298-2015：金属显微组织检验通则

4.ISO16700:2016：扫描电镜（SEM）操作规范

5.GB/T36065-2018：纳米材料表征用透射电子显微镜方法

6.ASTME3061-17：X射线衍射残余应力测试标准

检测设备

1.JEOLJEM-2100F场发射透射电镜：配备GatanOriusSC200相机，可实现0.14nm点分辨率

2.BrukerD8ADVANCEX射线衍射仪：配置LYNXEYEXE探测器，角度精度0.0001

3.TESCANMIRA4扫描电镜：搭载OxfordSymmetryEBSD系统，空间分辨率1.5nm

4.GatanModel656精密离子减薄仪：加速电压1-6kV可调，用于TEM样品制备

5.HysitronTIPremier纳米压痕仪：最大载荷10mN，位移分辨率0.02nm

6.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD平台：配置应力分析模块，测量精度10MPa

7.FEITalosF200XS/TEM：配备SuperXEDS探测器，可实现STEM-HAADF成像

8.ShimadzuHMV-G21显微硬度计：载荷范围10-1000gf，符合ISO6507标准

9.ZeissLSM900激光共聚焦显微镜：配备ECEpiplan物镜，横向分辨率120nm

10.OxfordInstrumentsAZtecLayerPro软件：支持多层EBSD数据采集与三维重构

北检(北京)检测技术研究院【简称：北检院】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

以上是与"堆垛层错析出检测"相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。