1.位错密度测定:测量范围10⁶-10cm⁻,误差5%
2.位错分布形态分析:包括直线型/螺旋型位错占比统计
3.柏氏矢量测定:精度达0.01nm
4.位错运动特性测试:应变速率110⁻⁵-110⁻s⁻
5.位错网络拓扑结构解析:节点密度测量精度3个/μm
1.金属材料:铝合金(AA6061)、钛合金(Ti-6Al-4V)等
2.半导体材料:单晶硅(Si)、砷化镓(GaAs)晶圆
3.陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、氮化硅(Si₃N₄)基体
4.复合材料:碳纤维增强环氧树脂基体
5.高分子材料:超高分子量聚乙烯(UHMWPE)晶体区
ASTME3-2019透射电子显微镜法测定金属位错密度
ISO22278:2020X射线衍射法位错密度计算规范
GB/T13298-2015金属显微组织检验方法
GB/T39489-2020电子背散射衍射技术通则
ISO24173:2009电子通道衬度成像分析规程
FEITecnaiG2F30TEM:点分辨率0.20nm,用于柏氏矢量测定
BrukerD8ADVANCEXRD:Cu靶Kα辐射(λ=0.15406nm)
OxfordInstrumentsSymmetryEBSD:分辨率≤0.05μm
JEOLJEM-ARM300FSTEM:原子级位错核心观测
ShimadzuHMV-G21显微硬度计:载荷范围1-2000gf
ZeissCrossbeam550FIB-SEM:三维位错重构系统
MalvernPanalyticalEmpyreanXRD:高温原位测试模块(RT-1600℃)
GatanK3-IS相机:超低噪声电子成像系统
HysitronTIPremier纳米压痕仪:位移分辨率0.02nm
LeicaEMTXP精密制样系统:离子束减薄精度5nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与分裂位错检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。