1.表面形貌分析:测量粗糙度Ra值(0.01-10μm)、台阶高度(1nm-100μm)及三维轮廓精度(0.5%)
2.元素分布检测:实现C、O、Fe等元素面扫描(分辨率≤1μm),能谱探测限0.1wt%
3.薄膜厚度测量:支持透明/半透明薄膜(10nm-50μm),误差≤2%
4.缺陷表征:识别微裂纹(长度≥0.5μm)、颗粒污染(粒径≥0.3μm)及孔洞密度(单位面积计数)
5.荧光特性分析:激发波长范围365-640nm,发射光谱分辨率≤5nm
1.金属材料:铝合金氧化层厚度、不锈钢晶间腐蚀形貌
2.半导体器件:硅片表面缺陷、Ⅲ-Ⅴ族化合物外延层成分
3.生物样品:细胞切片荧光标记物分布、组织病理切片染色分析
4.高分子材料:聚合物共混相分离结构、涂层交联度评估
5.光学薄膜:AR膜层厚度均匀性、滤光片透射率曲线
1.ASTME766:表面形貌校准标准方法
2.ISO14962:显微分光系统性能验证规程
3.GB/T27760-2011:显微物镜数值孔径测试规范
4.ISO19214:横截面显微分析通则
5.GB/T3505-2009:表面粗糙度参数定义与测量
1.OlympusDSX1000:6轴观察系统,支持20-7000倍连续变倍,配备激光干涉测厚模块
2.ZeissAxioImager2:微分干涉对比(DIC)功能,集成EDS能谱仪接口
3.KeyenceVK-X3000:3D激光显微系统,Z轴分辨率0.1nm
4.NikonEclipseLV150N:透反射双模式荧光显微镜,配置6波段滤光轮
5.LeicaDM8000M:共聚焦显微模块,支持405-730nm多波长激发
6.HitachiTM4000Plus:桌面电镜联用系统,实现光学-电子显微关联分析
7.BrukerContourGT-X3:白光干涉显微系统,垂直分辨率0.1nm
8.OlympusLEXTOLS5000:405nm激光光源,支持0.01μm级粗糙度测量
9.ZygoNewView9000:相移干涉显微技术,最大扫描面积100100mm
10.HiroxRH-2000:长工作距离镜头组(WD35mm),适用于大尺寸样品原位检测
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与分光显微镜检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。