


1.位错密度检测:测量范围103-1012cm-2,精度5%
2.晶界角度分析:测定范围0-180,分辨率0.1
3.空位浓度测定:检出限110-6at%,重复性RSD≤3%
4.层错能测试:测量范围50-500mJ/m,温度范围20-1200℃
5.孪晶界面表征:界面厚度分辨率0.5nm,取向差精度0.2
1.金属单晶/多晶材料:包括铝合金、钛合金、高温合金等
2.半导体晶体:硅(Si)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)晶圆
3.功能陶瓷:氧化铝(Al2O3)、氮化硅(Si3N4)结构件
4.光学晶体:氟化钙(CaF2)、铌酸锂(LiNbO3)元件
5.超导材料:YBCO涂层导体、MgB2线材
ASTME112-13:晶粒度测定标准方法
ISO17745:2019:透射电镜位错分析通则
GB/T13298-2015:金属显微组织检验方法
ISO24173:2021:电子背散射衍射(EBSD)测试规范
GB/T38720-2020:材料晶体结构测定方法
ASTMF3251-17:半导体晶体缺陷X射线检测规程
1.FEIScios2DualBeam:场发射扫描电镜配EBSD系统,空间分辨率1nm
2.BrukerD8DiscoverXRD:X射线衍射仪,角度重复性0.0001
3.JEOLJEM-ARM300F:原子分辨率透射电镜,点分辨率0.08nm
4.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD:电子背散射衍射系统,采集速度4000点/秒
5.MalvernPanalyticalEmpyrean:多功能X射线平台,配备高分辨三维探测器
6.ZeissLSM900:激光共聚焦显微镜,Z轴分辨率120nm
7.HitachiHF5000:冷场发射透射电镜,配备四探头EDX系统
8.RigakuSmartLabSE:高分辨率X射线衍射仪,配备旋转阳极光源
9.TescanMira4:扫描电镜配CL阴极荧光系统,用于发光材料缺陷分析
10.BrukerDimensionIcon:原子力显微镜,横向分辨率0.2nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"结晶缺陷检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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