1.膜层厚度测量:采用台阶仪测定0.1nm-10μm范围的膜厚均匀性(2%精度)
2.成分分析:通过EDS能谱仪实现元素含量测定(检出限0.1at%)
3.表面粗糙度检测:原子力显微镜(AFM)测量Ra值(分辨率0.1nm)
4.晶体结构表征:X射线衍射仪(XRD)分析薄膜晶型及取向(2θ角5-90)
5.附着力测试:划痕法测定临界载荷值(范围0-100N)
1.半导体器件:硅基/化合物半导体镀膜晶圆
2.光学元件:ZnS/MgF₂多层增透膜组件
3.金属涂层:Al/Ti/W高温抗氧化镀层
4.陶瓷薄膜:Al₂O₃/Si₃N₄绝缘介质层
5.超导材料:YBCO薄膜电极层
ASTMF1048-18《薄膜附着力的标准测试方法》
ISO14707:2015《表面化学分析-辉光放电光谱法》
GB/T16595-2017《微束分析扫描电镜能谱仪定量分析方法》
ISO21283:2018《表面粗糙度参数的原子力显微镜测定》
GB/T23414-2021《微束分析扫描电镜能谱仪定量分析方法》
1.KLATencorP-17台阶仪:0.1分辨率膜厚测量系统
2.BrukerD8ADVANCEXRD:配备LynxEye阵列探测器的高通量衍射仪
3.OxfordInstrumentsX-Max80EDS:50mm大面积能谱探测器
4.VeecoDimensionIconAFM:ScanAsyst智能扫描模式原子力显微镜
5.CSMRevetest划痕仪:200N高载荷测试模块
6.ThermoScientificESCALABXi+XPS:单色化AlKαX射线源光电子能谱仪
7.HoribaLabRAMHREvolution拉曼光谱仪:532/633/785nm多波长激光系统
8.ZygoNewView9000白光干涉仪:0.1nm垂直分辨率三维形貌分析
9.Agilent5500SPM:多模式扫描探针显微镜平台
10.HitachiSU5000场发射电镜:1nm分辨率二次电子成像系统
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与电子束蒸发检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。