1.晶体结构分析:采用X射线衍射(XRD)测定晶格常数(精度0.001)、晶面间距(误差≤0.5%)及结晶度(范围0-100%)
2.溶体浓度测定:通过电感耦合等离子体光谱(ICP-OES)检测金属离子含量(检出限0.01ppm),溶剂残留量(GC-MS法测定至0.1μg/L)
3.相变温度测试:差示扫描量热法(DSC)测量熔融温度(范围25-600℃,精度0.1℃),玻璃化转变温度(升温速率5℃/min)
4.元素分布检测:电子探针显微分析(EPMA)实现微区成分定量(空间分辨率1μm),能谱仪(EDS)面扫描元素分布图
5.热稳定性评估:热重分析仪(TGA)测定失重速率(温度范围RT-1000℃,分辨率0.1μg),氧化诱导期(OIT)测试
1.半导体材料:单晶硅片(直径≤300mm)、砷化镓外延层(厚度50-500nm)、氮化镓功率器件
2.金属合金:高温镍基合金(Inconel系列)、钛铝基复合材料(TiAl6V4)、形状记忆合金(NiTi)
3.陶瓷材料:氧化锆增韧陶瓷(Y-TZP)、碳化硅烧结体(密度≥3.1g/cm)、压电陶瓷(PZT-5H)
4.高分子复合材料:液晶聚合物薄膜(厚度10-200μm)、聚酰亚胺基纳米复合材料
5.光学晶体:铌酸锂单晶(直径≤4英寸)、氟化钙红外窗口片(透过率≥90%@3-5μm)
ASTME975-20金属材料X射线衍射定量相分析标准
ISO14706:2014表面化学分析-全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面金属杂质
GB/T23942-2009化学试剂电感耦合等离子体原子发射光谱法通则
ASTME1131-20热重分析法测定材料组成标准
GB/T19421.1-2003层状结晶二硅酸钠试验方法结晶相的鉴定-X射线衍射仪法
1.X射线衍射仪:PANalyticalX'Pert3Powder型,配备高温附件(最高1600℃),可进行原位相变分析
2.场发射扫描电镜:HitachiSU5000型,搭配牛津UltimMax170EDS探测器,实现纳米级形貌与成分同步表征
3.同步热分析仪:NETZSCHSTA449F5Jupiter,同步采集TG-DSC信号(灵敏度0.1μW)
4.电感耦合等离子体质谱仪:Agilent8900ICP-MS/MS,具备MS/MS模式消除质谱干扰
5.傅里叶变换红外光谱仪:ThermoScientificNicoletiS50,配置ATR附件(ZnSe晶体),光谱范围4000-225cm⁻
6.激光导热仪:LFA467HyperFlash,测量热扩散系数范围0.1-1000mm/s
7.X射线光电子能谱仪:ThermoScientificK-Alpha+,单色化AlKα射线(1486.6eV),空间分辨率≤30μm
8.动态机械分析仪:TAInstrumentsDMA850,频率范围0.01-200Hz,温度精度0.1℃
9.三维表面轮廓仪:BrukerContourGT-K1,垂直分辨率0.1nm,扫描面积100100mm
10.高分辨透射电镜:JEOLJEM-ARM300F,球差校正型,点分辨率0.08nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与晶体溶体检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。