1. 位错密度检测:测量范围10³-10¹⁰ cm⁻²,精度±5%
2. 空位浓度分析:灵敏度达0.01 at%,适用温度范围-196℃~1600℃
3. 晶界夹杂物表征:最小检出尺寸50nm,支持BSE/EDS联用
4. 层错能测定:应变分辨率0.001%,符合JIS H 7801标准
5. 孪晶界面角度测量:角度分辨率0.1°,三维重构误差<2%
1. 半导体单晶硅(Φ200mm以下晶圆)
2. 高温合金涡轮叶片(镍基/钴基)
3. 光学级蓝宝石衬底(c面/a面取向)
4. CVD金刚石薄膜(厚度1-500μm)
5. 压电陶瓷材料(PZT系/BST系)
1. X射线衍射法:ASTM E1426(极图分析)、GB/T 23414-2009(微区衍射)
2. 透射电子显微术:ISO 25498:2018(明/暗场成像)、GB/T 28873-2012(会聚束衍射)
3. 电子背散射衍射:ISO 24173:2009(取向成像)、ASTM E2627(晶界特征分析)
4. 同步辐射白光拓扑术:DIN SPEC 52407:2018(三维缺陷重构)
5. 正电子湮没谱法:ISO 18516:2019(空位型缺陷定量)
1. JEOL JSM-IT800扫描电镜:配备EBSD探头,空间分辨率3nm
2. Bruker D8 DISCOVER X射线衍射仪:微区光斑10μm,二维探测器
3. FEI Talos F200X透射电镜:STEM模式点分辨率0.16nm
4. Zeiss GeminiSEM 500:VP模式工作电压0.02-30kV
5. Oxford Instruments Symmetry EBSD系统:采集速度4000点/秒
6. Rigaku SmartLab SE:高分辨率XRD(≤0.0001°步进)
7. Bruker Dimension Icon原子力显微镜:PeakForce Tapping模式
8. Shimadzu EPMA-8050G电子探针:波长分辨率5eV
9. Malvern Panalytical Empyrean XRD平台:实时原位高温附件(1600℃)
10. ORDELA FASTWICE正电子寿命谱仪:时间分辨率230ps
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与晶体缺陷检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。