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晶体缺陷检测

  • 原创官网
  • 2025-04-02 09:56:38
  • 关键字:晶体缺陷测试范围,晶体缺陷测试标准,晶体缺陷测试方法
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晶体缺陷检测概述:晶体缺陷检测是材料科学领域的核心分析技术之一,重点针对晶体结构中的位错、空位、夹杂物等缺陷进行定量与定性分析。关键检测参数包括缺陷密度、分布特征及尺寸精度等,需结合X射线衍射、电子显微术等方法,并严格遵循ASTM、ISO及GB/T等标准规范,确保数据准确性和可重复性。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1. 位错密度检测:测量范围10³-10¹⁰ cm⁻²,精度±5%

2. 空位浓度分析:灵敏度达0.01 at%,适用温度范围-196℃~1600℃

3. 晶界夹杂物表征:最小检出尺寸50nm,支持BSE/EDS联用

4. 层错能测定:应变分辨率0.001%,符合JIS H 7801标准

5. 孪晶界面角度测量:角度分辨率0.1°,三维重构误差<2%

检测范围

1. 半导体单晶硅(Φ200mm以下晶圆)

2. 高温合金涡轮叶片(镍基/钴基)

3. 光学级蓝宝石衬底(c面/a面取向)

4. CVD金刚石薄膜(厚度1-500μm)

5. 压电陶瓷材料(PZT系/BST系)

检测方法

1. X射线衍射法:ASTM E1426(极图分析)、GB/T 23414-2009(微区衍射)

2. 透射电子显微术:ISO 25498:2018(明/暗场成像)、GB/T 28873-2012(会聚束衍射)

3. 电子背散射衍射:ISO 24173:2009(取向成像)、ASTM E2627(晶界特征分析)

4. 同步辐射白光拓扑术:DIN SPEC 52407:2018(三维缺陷重构)

5. 正电子湮没谱法:ISO 18516:2019(空位型缺陷定量)

检测设备

1. JEOL JSM-IT800扫描电镜:配备EBSD探头,空间分辨率3nm

2. Bruker D8 DISCOVER X射线衍射仪:微区光斑10μm,二维探测器

3. FEI Talos F200X透射电镜:STEM模式点分辨率0.16nm

4. Zeiss GeminiSEM 500:VP模式工作电压0.02-30kV

5. Oxford Instruments Symmetry EBSD系统:采集速度4000点/秒

6. Rigaku SmartLab SE:高分辨率XRD(≤0.0001°步进)

7. Bruker Dimension Icon原子力显微镜:PeakForce Tapping模式

8. Shimadzu EPMA-8050G电子探针:波长分辨率5eV

9. Malvern Panalytical Empyrean XRD平台:实时原位高温附件(1600℃)

10. ORDELA FASTWICE正电子寿命谱仪:时间分辨率230ps

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与晶体缺陷检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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