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六方点阵检测

  • 原创官网
  • 2025-04-02 10:19:42
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六方点阵检测概述:六方点阵检测是材料科学领域的关键分析技术,主要用于表征密排六方(HCP)晶体结构的微观特征。核心检测参数包括晶格常数、取向偏差、层错密度及织构分布等指标。该检测适用于金属合金、陶瓷材料及半导体等领域,需通过X射线衍射(XRD)、电子背散射衍射(EBSD)等精密仪器完成数据采集与分析,严格遵循ASTM、ISO及GB/T系列标准。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1. 晶格常数测定:a轴(0.295-0.335 nm)与c轴(0.468-0.521 nm)精度±0.001 nm

2. 取向偏差分析:基面取向角偏差≤3°,柱面取向角偏差≤5°

3. 层错密度检测:测量范围10³-10⁶ cm⁻²,分辨率达50 nm

4. 晶粒尺寸分布:粒径范围0.5-200 μm,统计误差<5%

5. 织构强度表征:极图最大强度值1.0-15.0 MRD(多重随机分布系数)

检测范围

1. 金属合金:镁合金(AZ31B/ZK60)、钛合金(Ti-6Al-4V/CP-Ti)

2. 陶瓷材料:氮化硼(h-BN)、碳化硅(α-SiC)

3. 复合材料:金属基复合材料(Al/SiC)

4. 半导体材料:氮化镓(GaN)单晶衬底

5. 高温合金:镍基超合金(Inconel 718)

检测方法

1. ASTM E2627-19:X射线衍射法测定晶粒尺寸

2. ISO 20283:2017:电子背散射衍射晶体取向分析

3. GB/T 13747.2-2022:六方晶系材料织构测定方法

4. ASTM E112-13:金相法测定平均晶粒度

5. ISO 24173:2019:透射电镜层错密度测试规程

6. GB/T 36063-2018:晶体结构参数X射线测定通则

检测设备

1. Bruker D8 ADVANCE X射线衍射仪:配备LynxEye阵列探测器,角度重复性±0.0001°

2. FEI Quanta 650 FEG扫描电镜:搭载EDAX Hikari EBSD系统,分辨率达1 nm

3. JEOL JEM-ARM300F透射电镜:球差校正系统支持原子级层错观测

4. Malvern Panalytical Empyrean XRD平台:配置高温附件(RT-1600℃)

5. Oxford Instruments Symmetry EBSD探测器:采集速度>3000点/秒

6. Shimadzu XRD-7000衍射仪:配备单色CuKα辐射源(λ=1.5406Å)

7. Zeiss Sigma 500场发射SEM:搭配AZtecCrystal织构分析软件

8. Rigaku SmartLab X射线系统:具备平行光束光学系统(4kW旋转靶)

9. TESCAN MIRA4 SEM:集成CL探测器用于半导体材料缺陷分析

10. Gatan Orius SC200D CCD相机:支持TEM动态原位观察

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与六方点阵检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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