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纯铜始极片检测

  • 原创官网
  • 2025-04-02 10:36:03
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纯铜始极片检测概述:纯铜始极片作为电解冶金及电子工业的核心材料,其质量直接影响终端产品性能。专业检测涵盖化学成分分析、物理性能测试及表面缺陷筛查等关键指标,需严格遵循ASTM、ISO及GB/T系列标准。本文系统阐述厚度公差、导电率、晶粒度等核心参数的技术要求及实验室级检测方法。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1. 厚度测量:精度±0.02mm(符合GB/T 5231-2012),采用三点式激光测厚法

2. 化学成分分析:Cu≥99.95%,杂质元素总量≤500ppm(参照YS/T 201-2011)

3. 表面粗糙度:Ra≤0.8μm(依据ISO 4287:1997)

4. 导电率测试:≥100% IACS(按GB/T 351-2013涡流法)

5. 抗拉强度:≥200MPa(ASTM E8/E8M-21标准试样)

6. 晶粒度评级:G≥6级(ASTM E112-13金相法)

7. 残余应力测试:≤50MPa(X射线衍射法GB/T 7704-2017)

检测范围

1. 电解铜用阴极始极片(厚度0.6-1.2mm)

2. PCB基板用高纯铜箔(纯度99.99%)

3. 真空镀膜靶材预成型片(表面粗糙度Ra≤0.4μm)

4. 电力设备导电连接片(导电率≥101% IACS)

5. 新能源汽车电池集流体(抗拉强度≥220MPa)

6. 半导体封装引线框架材料(晶粒度G8-G10级)

检测方法

1. ICP-AES光谱法(ASTM E1479-16)测定17种杂质元素

2. 四探针电阻测试仪(GB/T 3048.2-2007)测量体电阻率

3. 扫描电镜能谱联用(ISO 22309:2011)分析表面微观形貌

4. X射线荧光光谱法(GB/T 16597-2019)快速成分筛查

5. 电子背散射衍射技术(ISO 24173:2009)表征晶体取向

6. 恒电位极化法(ASTM G5-14)评估耐腐蚀性能

7. 超声波探伤仪(GB/T 8651-2015)检测内部缺陷

检测设备

1. 奥林巴斯XRD分析仪X'Pert3 Powder:残余应力及物相分析

2. 岛津EDX-7000 X荧光光谱仪:元素定量分析精度±0.01%

3. 三丰数显千分尺293-240-30:分辨率0.001mm的厚度测量

4. ZwickRoell Z100拉力试验机:50kN载荷精度±0.5%FS

5. Keyence VHX-7000数码显微镜:5000倍表面形貌观测

6. Thermo Fisher iCAP PRO ICP-OES:检出限达ppb级成分分析

7. Elcometer 456涡流测厚仪:非破坏性镀层厚度测量

8. Instron CEAST冲击试验机:符合ISO 179-1的韧性测试

9. Mitutoyo SJ-410粗糙度仪:Ra/Rz/Rt多参数表面评估

10. Bruker D8 DISCOVER XRD:织构分析与残余应力测定

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与纯铜始极片检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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