1. 晶面取向偏差检测:测量实际晶面与理论取向的角度偏差(±0.5°精度)
2. 反射率分布分析:在200-2000nm波长范围内测定镜面反射率(分辨率±0.1%)
3. 表面粗糙度测量:采用原子力显微镜进行纳米级粗糙度表征(Ra≤0.5nm)
4. 晶格常数误差验证:通过XRD测定立方晶系(100)/(111)面的d值偏差(±0.002Å)
5. 缺陷密度统计:扫描电镜观测表面位错密度(≤10^4/cm²)
1. 半导体材料:单晶硅(100)/(111)晶圆、砷化镓(GaAs)基板
2. 光学镀膜材料:TiO₂/SiO₂多层膜系晶体结构
3. 金属单晶材料:高纯铝(Al)、铜(Cu)定向凝固试样
4. 陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、氮化硅(Si₃N₄)烧结体
5. 光伏材料:碲化镉(CdTe)、铜铟镓硒(CIGS)薄膜电池
1. ASTM E112-13:标准测试方法测定平均晶粒尺寸
2. ISO 14706:2014:表面元素分布的电子能谱分析法
3. GB/T 13301-91:金属材料中夹杂物的显微评定方法
4. GB/T 16594-2008:微米级长度的扫描电镜测量方法
5. JIS H 7804:2005:X射线衍射法测定晶体取向的测试通则
1. Rigaku SmartLab X射线衍射仪:配备9kW旋转阳极靶,可进行θ-2θ联动扫描
2. Olympus LEXT OLS5000激光共聚焦显微镜:405nm激光源,Z轴分辨率1nm
3. Bruker Dimension Icon原子力显微镜:峰值力轻敲模式,扫描范围90μm×90μm
4. PerkinElmer Lambda 1050分光光度计:双单色器系统,波长精度±0.08nm
5. Hitachi SU5000场发射扫描电镜:加速电压0.5-30kV,二次电子分辨率1.0nm
6. Zygo NewView9000白光干涉仪:垂直分辨率0.1nm,最大扫描面积25mm×25mm
7. PANalytical X'Pert3 MRD高分辨衍射仪:四轴测角仪系统,角度重复性±0.0001°
8. Keysight 5500LS原子力显微镜:声学噪声隔离系统,最大扫描速率10Hz
9. Shimadzu XRD-7000多功能衍射仪:配备高温附件(最高1600℃)
10. KLA Tencor P-17表面轮廓仪:触针半径2μm,垂直量程1000μm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与立方晶面反射检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。