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不全位错检测

  • 原创官网
  • 2025-04-03 09:38:19
  • 关键字:不全位错测试案例,不全位错测试范围,不全位错测试标准
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不全位错检测概述:不全位错检测是材料缺陷分析的关键环节,主要针对晶体材料中原子排列的非完整线性缺陷进行表征。核心检测要点包括位错密度、伯氏矢量方向及滑移系分析等参数。需结合透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)等技术手段,严格遵循ASTM、ISO及GB/T标准体系,确保数据精确性和可重复性。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1. 位错密度测定:测量范围104-1012 cm-2,误差≤±5%

2. 伯氏矢量分析:采用g·b=0判据法确定矢量方向及模长

3. 滑移系判定:识别{111}<110>(FCC)或{110}<111>(BCC)滑移系统

4. 层错能计算:通过扩展位错宽度反推能量值(单位:mJ/m2

5. 动态行为观测:原位拉伸/压缩条件下记录位错运动速率(0.1-100 nm/s)

检测范围

1. 金属材料:铝合金(AA2024/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)等

2. 半导体材料:单晶硅(CZ-Si)、砷化镓(GaAs)晶圆

3. 高温合金:镍基超合金(Inconel 718)、钴基合金(Stellite 6B)

4. 陶瓷材料:氧化铝(Al2O3)、碳化硅(SiC)结构陶瓷

5. 复合材料:碳纤维增强钛基(Cf/Ti)复合材料界面区域

检测方法

1. ASTM E3-11:金相试样制备标准(TEM样品制备)

2. ISO 25498:2018:微束分析-电子背散射衍射分析方法

3. GB/T 13305-2008:金属材料中显微组织的定量测定方法

4. ASTM E112-13:晶粒度测定中的统计误差控制规范

5. ISO 24173:2009:微束分析-电子衍射花样标定指南

检测设备

1. JEOL JEM-ARM300F:球差校正透射电镜,分辨率0.08 nm

2. Thermo Scientific Apreo 2:场发射扫描电镜,配备EBSD探测器

3. Bruker D8 Discover:高分辨X射线衍射仪,角度精度±0.0001°

4. Gatan K3-IS:直接电子探测器,帧率40 fps@4k分辨率

5. Oxford Instruments Symmetry:EBSD探测器,采集速度6000点/秒

6. Fischione Model 1061:离子减薄仪,加速电压1-8 kV可调

7. Zeiss Crossbeam 550:聚焦离子束系统,定位精度±10 nm

8. Shimadzu EZ-Test:微力学测试机,载荷分辨率0.01 N

9. Bruker Dimension Icon:原子力显微镜,Z轴分辨率0.1 nm

10. Malvern Panalytical Empyrean:多晶XRD系统,配备高温附件

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与不全位错检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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