1. 晶面指数测定:采用XRD进行晶面间距测量(精度±0.0001nm),结合EBSD获取三维取向数据
2. 晶粒尺寸分布:基于SEM/TEM图像分析(测量范围50nm-500μm),符合ASTM E112标准
3. 位错密度计算:通过HRTEM观测(分辨率≤0.1nm),结合X射线线形分析法
4. 孪晶界面分析:电子背散射衍射测定孪生角(误差±0.5°),识别{111}型孪晶系
5. 晶体缺陷表征:同步辐射CT扫描(空间分辨率1μm³),定量统计空位/间隙缺陷浓度
1. 金属单质及合金:包括铝合金(AA2000/7000系)、钛合金(TC4/TA15)、镍基高温合金等
2. 无机非金属材料:氧化铝陶瓷(Al₂O₃≥99%)、碳化硅单晶(4H/6H-SiC)、压电晶体(LiNbO₃)
3. 半导体材料:硅单晶(<100>/<111>取向)、GaN外延层、砷化镓衬底片
4. 功能晶体:KDP类非线性光学晶体、BGO闪烁晶体、YAG激光晶体
5. 纳米结构材料:量子点(CdSe/ZnS核壳结构)、金属有机框架晶体(ZIF-8/MOF-5)
1. ASTM E112-13:金属材料平均晶粒度测定标准
2. ISO 17721:2022:微束分析-电子背散射衍射定量分析方法
3. GB/T 13298-2015:金属显微组织检验方法
4. ISO 22262-2:2020:材料表征-同步辐射X射线拓扑技术
5. GB/T 36075-2018:纳米技术-扫描电子显微镜法测量纳米颗粒度
1. X射线衍射仪(PANalytical Empyrean):配备高温附件(-196℃~1600℃),进行原位晶体结构分析
2. 场发射扫描电镜(Hitachi SU5000):配备Oxford EBSD探测器,空间分辨率1nm@15kV
3. 透射电子显微镜(JEOL JEM-ARM300F):球差校正电镜,点分辨率0.08nm
4. 同步辐射光源线站(SSRF BL14B1):X射线能量范围5-20keV,光束尺寸50×50μm²
5. 原子力显微镜(Bruker Dimension Icon):峰值力轻敲模式,Z轴分辨率0.1nm
6. 激光共聚焦显微镜(Olympus LEXT OLS5000):405nm激光源,横向分辨率120nm
7. X射线三维显微镜(ZEISS Xradia 620 Versa):空间分辨率0.7μm@40kV,4D原位观测系统
8. 电子探针显微分析仪(JEOL JXA-8530F):波长色散谱仪,元素分析范围B~U
9. 拉曼光谱仪(Renishaw inVia Qontor):532/785nm双激光源,空间分辨率<1μm
10. 聚焦离子束系统(Thermo Scientific Helios G4 UX):30kV Ga+离子束,加工精度±5nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"晶体习性检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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