1.晶体缺陷密度:采用腐蚀坑法测定位错密度(≤10^3/cm)
2.元素纯度分析:GD-MS检测金属杂质含量(≥99.9999%)
3.晶格常数偏差率:XRD测定与理论值偏差(≤0.0005nm)
4.表面粗糙度:AFM扫描Ra值(≤0.5nm@10μm10μm)
5.热稳定性测试:高温退火后位错增殖率(≤5%@1250℃/2h)
1.半导体级单晶硅籽晶
2.蓝宝石衬底用α-Al₂O₃籽晶
3.激光晶体用Nd:YAG籽晶
4.光伏行业用多晶硅籽晶
5.光学器件用CaF₂籽晶
1.ASTMF1241-22:X射线形貌术分析晶体缺陷
2.ISO14707:2021:辉光放电质谱法测定痕量元素
3.GB/T1554-2020:半导体单晶晶向测试方法
4.GB/T32281-2015:扫描电子显微镜表面形貌分析
5.ISO13067:2020:电子背散射衍射晶体取向分析
1.RigakuSmartLabX射线衍射仪:9kW旋转阳极光源,最小步长0.0001
2.ThermoScientificPrimaGD-MS:检出限达ppt级
3.HitachiSU5000场发射电镜:0.8nm@15kV分辨率
4.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:峰值力轻敲模式
5.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD系统:全自动菊池花样采集
6.LeicaDM8000M金相显微镜:微分干涉对比功能
7.NetzschSTA449F3同步热分析仪:最高1600℃测试能力
8.Keysight5500LS原子力显微镜:声学噪声<30pmRMS
9.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD:PIXcel3D探测器
10.ZeissCrossbeam550FIB-SEM:5nm分辨率离子束加工
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与本征籽晶检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。