


1.纯度分析:采用四探针法测定铜含量≥99.99%(4N级)至≥99.9999%(6N级)
2.杂质元素检测:Ag≤5ppm、Fe≤8ppm、Pb≤3ppm、S≤2ppm、O≤15ppm
3.电导率测试:20℃条件下≥58.010^6S/m(对应100%IACS)
4.氧含量测定:惰性气体熔融法测量氧含量≤20ppm
5.表面质量检验:SEM扫描电镜观测晶粒度≥0.05mm
1.电子级无氧铜(C10100/C10200):用于高频电路基板与连接器制造
2.溅射靶材(纯度≥99.995%):半导体镀膜工艺核心材料
3.超导线圈用铜材:大型强子对撞机等低温超导系统组件
4.真空灭弧室铜件:中高压开关设备关键导电部件
5.热沉材料(热导率≥380W/mK):大功率激光器散热基板
1.光谱分析法:ASTME1251-17a火花原子发射光谱法测定金属杂质
2.ICP-MS法:ISO11876:2010电感耦合等离子体质谱法检测痕量元素
3.库仑滴定法:GB/T5121.27-2020测定氧含量(精度0.5ppm)
4.四探针电阻测试:GB/T351-2019金属材料电阻率测量规范
5.X射线荧光法:JISH1051:2021非破坏性成分快速筛查
1.ThermoScientificARLiSpark8860火花直读光谱仪(0.1ppm检出限)
2.PerkinElmerNexION350DICP-MS(10ppt级痕量元素分析)
3.LECOONH836氧氮氢分析仪(氧含量测量精度0.1ppm)
4.KeysightB2902A精密源表(四探针法电阻率测量系统)
5.HitachiSU5000场发射扫描电镜(1nm分辨率表面形貌分析)
6.MalvernPanalyticalZetiumXRF光谱仪(多元素同步快速检测)
7.NetzschDIL402ExpedisClassic热膨胀仪(热导率精确测定)
8.Agilent5900SVDV电感耦合等离子体发射光谱仪(多元素定量分析)
9.BrukerD8ADVANCEX射线衍射仪(晶体结构完整性验证)
10.MettlerToledoXP205电子天平(0.01mg级称量精度)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"高纯铜检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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