1.位错密度测定:测量单位面积内位错线数量(10^4-10^12cm^-2),采用截面投影法计算三维密度
2.位错分布形态分析:评估均匀性指数(U.I.≥0.85)与聚集度系数(C.C.≤0.35)
3.位错尺寸特征表征:测量单个位错长度(50nm-10μm)及柏氏矢量模量(0.25-0.5nm)
4.界面位错网络观测:记录晶界/相界处位错节点密度(≥510^6m^-1)
5.动态位错行为监测:捕捉热循环(ΔT=300-800℃)下位错增殖速率(≥10^3cm^-2/s)
1.单晶硅片(直径200-300mm)的滑移位错群
2.镍基高温合金涡轮叶片的蠕变位错
3.铝合金轧制板材的位错胞结构
4.钛合金骨科植入物的疲劳位错累积
5.GaN半导体外延层的穿透位错
1.ASTME112-13:金相法测定晶粒度与位错蚀坑密度
2.ISO643:2019:透射电镜明场像位错统计规范
3.GB/T24177-2009:X射线衍射线形分析法
4.ASTMF47-21:电子背散射衍射(EBSD)晶格畸变测量
5.GB/T13298-2015:金属显微组织检验通则
6.GB/T13305-2008:奥氏体不锈钢α-马氏体相变位错观测
1.JEOLJSM-7900F场发射扫描电镜:配备OxfordEBSD探测器,空间分辨率1nm
2.FEITalosF200X透射电镜:STEM模式可实现0.16nm点分辨率
3.BrukerD8DiscoverX射线衍射仪:配置Hi-Star二维探测器,角度精度0.0001
4.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD系统:最大采集速度3000点/秒
5.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:峰值力轻敲模式分辨率0.2nm
6.ThermoScientificHeliosG4UX聚焦离子束:30kVGa+离子束制备TEM样品
7.OlympusLEXTOLS5000激光共聚焦显微镜:405nm激光实现三维形貌重构
8.NikonEclipseMA200倒置金相显微镜:配备DS-Fi3摄像头(500万像素)
9.KeysightG200纳米压痕仪:动态模量测量范围0.01-500GPa
10.上海光源SSRFBL14B1线站:同步辐射白光形貌术分辨率10μm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"分段位错检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。