检测项目

1.晶格常数测定：误差范围0.02

2.晶体缺陷密度分析：位错密度≥110⁶cm⁻

3.晶粒尺寸分布：测量精度50nm

4.晶体取向偏差：角度分辨率≤0.5

5.化学成分分析：元素含量偏差≤0.3wt%

检测范围

1.金属单质材料：铜（Cu）、铝（Al）等纯金属晶体

2.无机非金属材料：NaCl型离子晶体

3.半导体材料：硅（Si）、锗（Ge）单晶片

4.合金材料：Fe-Cr-Al系高温合金

5.纳米粉末材料：粒径≤100nm的金属氧化物粉末

检测方法

1.ASTME112:晶粒尺寸测定标准方法

2.ISO643:钢的奥氏体晶粒度测定

3.GB/T13298-2015:金属显微组织检验方法

4.ASTME975:X射线衍射残余应力分析

5.ISO24173:电子背散射衍射（EBSD）分析规范

检测设备

1.X'PertMRDXL(PANalytical):X射线衍射仪，晶格常数测定

2.JEOLJSM-7900F:场发射扫描电镜，表面形貌观察

3.BrukerD8DISCOVER:高分辨XRD系统，晶体取向分析

4.OxfordInstrumentsSymmetry:EBSD探测器，晶界特征统计

5.NetzschSTA449F3:同步热分析仪，相变温度测定

6.LeicaDM2700M:金相显微镜，晶粒尺寸测量

7.ShimadzuEPMA-8050G:电子探针显微分析仪，成分分析

8.MalvernMastersizer3000:激光粒度仪，粉末粒径分布

9.Agilent5500:原子力显微镜（AFM），表面粗糙度测量

10.RigakuSmartLabSE:高分辨率X射线衍射系统，缺陷密度计算