1.晶体结构分析:选区电子衍射(SAED)模式,最小选区直径50nm;高分辨晶格成像(HRTEM)分辨率≤0.1nm
2.元素成分分析:EDS探测器能量分辨率≤127eV(Mn-Kα),元素检测范围B5-U92
3.微区成分分布:线扫描步长最小1nm;面分布像素分辨率2nm2nm
4.缺陷表征:位错密度测量精度10^6/cm;层错能计算误差≤5%
5.厚度测量:电子能量损失谱(EELS)厚度标定范围10-200nm
1.金属材料:铝合金析出相表征(尺寸<10nm)、高温合金γ'相成分梯度分析
2.半导体器件:FinFET栅极界面氧化层厚度测量(<3nm)、量子点元素偏聚分析
3.陶瓷材料:ZrO2相变区域晶格畸变观测、SiC晶界非晶层厚度测定
4.高分子材料:嵌段共聚物微区元素分布成像(空间分辨率5nm)
5.生物样品:病毒颗粒表面蛋白标记元素定位(Pt/Ir标记法)
1.ASTME1508-12:微束分析标准操作规范(加速电压校准0.5kV)
2.ISO16700:2016:TEM图像放大倍率校准方法(标准样品SRM2060a)
3.GB/T17359-2020:微束分析能谱定量分析通则(ZAF修正误差≤3%)
4.ISO25498:2018:选区电子衍射标定规程(相机常数误差0.5%)
5.GB/T36065-2018:纳米材料透射电子显微镜表征方法通则
1.JEOLJEM-ARM300F:冷场发射枪,球差校正TEM,点分辨率0.08nm
2.ThermoScientificSpectra300:单色器配置,能量分辨率0.15eV@200kV
3.HitachiHF5000:相位板成像系统,支持冷冻生物样品直接观察
4.FEITitanG260-300:S-TWIN物镜系统,STEMHAADF分辨率0.12nm
5.ZeissLibra200MC:in-column能量过滤器,电子能量损失谱采集时间<1ms/pixel
6.JEOLJEM-F200:冷场发射+肖特基双源系统,束流稳定性0.2%/h
7.ThermoFisherTalosF200X:4通道SDD探测器,最大计数率500kcps
8.HitachiHT7800:高对比度模式设计,支持低原子序数元素成像(C/N/O)
9.FEITecnaiG2F20:双倾样品台倾转范围40,配备GatanOriusSC200相机
10.JEOLJEM-2100Plus:LaB6灯丝系统,配备OxfordX-MaxN150TLE能谱仪
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"透射电子显微镜(TEM-EDS测试)"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。