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暗视场法检测

  • 原创官网
  • 2025-04-17 08:53:43
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暗视场法检测概述:暗视场法是一种基于光学散射原理的表面缺陷检测技术,适用于高反射率或透明材料的微观结构分析。该方法通过抑制直射光信号,增强样品表面微小不规则结构的散射光成像能力,可精确识别亚微米级划痕、颗粒污染物及晶体缺陷。核心检测参数包括散射光强度阈值、信噪比控制及图像对比度校准。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1. 表面粗糙度检测:Ra 0.01-0.8μm范围测量

2. 微裂纹识别:最小可检长度50μm

3. 颗粒污染物计数:粒径分辨率≥0.3μm

4. 镀层均匀性评估:厚度偏差±5nm

5. 晶体位错密度测定:分辨率≥1×10⁶/cm²

检测范围

1. 金属抛光件(不锈钢/铝合金/钛合金)

2. 光学镀膜元件(AR/IR/滤光片)

3. 半导体晶圆(硅片/砷化镓/氮化镓)

4. 高分子薄膜(PET/PC/PMMA)

5. 精密陶瓷基板(氧化铝/氮化硅)

检测方法

1. ASTM E1444-2016 磁粉检测标准(适用金属材料)

2. ISO 14952-3:2018 表面清洁度分级规范

3. GB/T 34879-2017 微纳米表面粗糙度测量方法

4. ISO 14644-8:2022 洁净室粒子监测标准

5. GB/T 34372-2017 半导体晶片表面缺陷检验

检测设备

1. Olympus DSX1000数码显微镜:配备DF-DIC模块

2. Zeiss Axio Imager M2m金相显微镜:配置EPI暗场物镜

3. Keyence VHX-7000三维显微系统:集成多向照明组件

4. Bruker ContourGT-X3白光干涉仪:具备暗场成像模式

5. Leica DM8000 M工业显微镜:专用暗场环形光源

6. Nikon Eclipse LV150N倒置显微镜:配置NA1.4暗场聚光镜

7. Hitachi TM4000Plus桌面电镜:二次电子暗场探测器

8. Mitutoyo MF-U1000超景深显微镜:LED环形暗场照明系统

9. Olympus LEXT OLS5000激光共聚焦显微镜:3D暗场重构功能

10. Zygo NewView9000轮廓仪:结合散射光分析模块

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与暗视场法检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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