1. 表面形貌分析:分辨率≤1.0 nm(二次电子模式),放大倍数10-1,000,000倍
2. 元素成分定性/定量分析:配备EDS探测器(能量分辨率≤129 eV),元素范围B-U
3. 断面层析成像:工作距离3-30 mm,加速电压0.1-30 kV可调
4. 晶体取向分析:搭配EBSD系统(角分辨率≥0.5°),采集速度≥3,000点/秒
5. 纳米颗粒粒径统计:最小识别粒径10 nm(背散射电子模式)
1. 金属材料:铝合金晶界腐蚀评估、钢中夹杂物分布表征
2. 陶瓷材料:烧结体孔隙率测定、涂层界面结合状态分析
3. 高分子材料:共混物相分离结构观测、纤维断面形貌研究
4. 生物样品:细胞表面超微结构成像(需低真空模式)
5. 电子元件:焊点微观缺陷检测、芯片线路三维重构
1. ASTM E1508-20《电子显微镜校准标准指南》
2. ISO 16700:2016《微束分析-扫描电镜-图像放大校准方法》
3. GB/T 27788-2020《微束分析 扫描电镜能谱仪定量分析通则》
4. GB/T 30067-2013《金相试样电解抛光方法》
5. ISO 21363:2020《纳米技术-透射电镜和扫描电镜测量颗粒尺寸及形状分布》
1. 蔡司Sigma 500场发射SEM:分辨率0.8 nm@15 kV,集成EDS/EBSD系统
2. 日立SU8010冷场发射SEM:低电压成像能力(0.1 kV),适用于非导电样品
3. TESCAN MIRA4 GMU FEG-SEM:配备CL阴极荧光光谱仪
4. FEI Quanta 650 FEG环境SEM:压力范围10-4000 Pa,支持动态过程观察
5. JEOL JSM-7900F Schottky场发射SEM:束流稳定性≤0.4%/h
6. 牛津仪器Xplore30 EDS探测器:硅漂移探测器(SDD),最大输入计数率500,000 cps
7. Bruker eFlash FS EBSD系统:全自动花样标定速度≥600点/秒
8. Gatan MonoCL4阴极荧光系统:光谱范围185-1700 nm
9. Leica EM ACE600镀膜仪:磁控溅射镀膜厚度控制精度±1 nm
10. Fischione Model 1061离子研磨仪:截面制备角度精度±0.1°
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与扫描电镜分析相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。