检测项目

1. 表面粗糙度：Ra 0.1-6.3μm | Rz 0.5-25μm | Rq 0.15-7.5μm

2. 平面度误差：≤0.5μm/25mm | ≤1.5μm/100mm

3. 波纹度分析：波长0.1-10mm | 幅值≤50nm

4. 反射均匀性：±2% @632.8nm

5. 局部曲率半径：R≥500mm

检测范围

1. 光学元件：透镜/棱镜/反射镜基片

2. 半导体材料：硅晶圆/化合物半导体衬底

3. 金属加工件：精密轴承/液压阀体

4. 高分子材料：导光板/光学薄膜

5. 精密模具：注塑模/压铸模型腔

检测方法

1. ISO 4287:1997 表面结构轮廓法术语定义

2. ASTM E430-11 镜面光泽度标准测试方法

3. GB/T 29505-2013 硅片表面平整度测试方法

4. ISO 10110-5:2015 光学元件表面缺陷公差

5. GB/T 10610-2009 产品几何技术规范表面结构轮廓法

检测设备

1. Taylor Hobson Form Talysurf PGI 1240：三维轮廓仪（分辨率0.8nm）

2. Mitutoyo SJ-410：接触式表面粗糙度仪（Ra测量范围0.01-50μm）

3. Zygo NewView 9000：白光干涉仪（垂直分辨率0.1nm）

4. Bruker ContourGT-X8：光学轮廓仪（20×~150×变倍物镜）

5. Keyence VK-X3000：激光共聚焦显微镜（408nm波长）

6. Olympus LEXT OLS5000：3D激光显微镜（12000×放大倍率）

7. Panasonic UA3P：超精密三维测量机（重复精度±0.02μm）

8. Jenoptik Waveline：波前分析仪（λ/20 PV精度）

9. Zeiss Surfcom Flex：非接触式粗糙度仪（0.005μm Ra分辨率）

10. Kosaka Lab Surfcorder SE3500：台阶仪（最大测量高度35mm）