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浓度深度曲线测试

  • 原创官网
  • 2025-02-20 09:25:49
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浓度深度曲线测试概述:浓度深度曲线测试是通过精确分析材料表面至内部成分梯度变化的关键检测技术,广泛应用于金属镀层、半导体掺杂、涂层材料等领域。本文重点阐述测试的核心项目、适用材料范围、符合ASTM/ISO标准的检测方法,以及高精度设备的选型依据,为工业质量控制与研发提供科学数据支持。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

层析深度分析:0.1-50μm深度范围,步长精度±0.5nm

浓度分辨率检测:元素浓度梯度分辨率达0.1at%

元素分布均匀性:三维空间分布标准差≤2.5%

界面扩散系数测定:检出限1018 atoms/cm3

氧化层厚度检测:精度±1.5nm(适用于5-200nm氧化层)

检测范围

金属合金材料:检测渗碳/渗氮层、电镀层元素扩散梯度

半导体材料:分析离子注入掺杂浓度分布及PN结特性

高分子复合材料:评估添加剂在基体中的垂直迁移规律

功能性涂层:检测PVD/CVD涂层的成分梯度与结合强度

生物医学材料:测定羟基磷灰石涂层钙磷比梯度变化

检测方法

X射线光电子能谱(XPS):符合ASTM E1078标准,深度分辨率3nm

二次离子质谱(SIMS):执行ISO 23812规范,检测限达ppb级

辉光放电光谱(GDOES):依据ISO 14707:2021,分析速率0.5μm/min

俄歇电子能谱(AES):采用ASTM E827标准,空间分辨率10nm

聚焦离子束-电镜(FIB-SEM):满足ISO 21363纳米尺度三维重构要求

检测设备

Thermo Scientific K-Alpha XPS:配备Al Kα单色源,结合Ar+溅射系统实现深度剖析

ION-TOF TOF.SIMS 5:双束分析模式,质量分辨率m/Δm>17,000

Horiba GD-Profiler 2:4MHz射频源,支持深度分辨率<1nm/层

PHI 710 AES:纳米探针系统,束斑直径<8nm

Zeiss Crossbeam 550 FIB-SEM:30kV Ga+离子束,配EDX/EBSD联用模块

技术优势

获得CNAS认可(注册号:详情请咨询工程师)和ISO/IEC 17025认证

配备15名专业检测工程师团队,平均从业年限>8年

建立材料数据库覆盖2000+种标准样品比对数据

自主研发深度校准算法,通过NIST SRM 2135认证

具备三维重构能力,可生成可视化成分分布模型

  以上是与浓度深度曲线测试相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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