1. 蒸发速率稳定性:测量范围0.1-50 Å/s,波动率≤±3%
2. 膜层厚度均匀性:300mm基片内厚度偏差≤±1.5%
3. 基底温度控制:工作温度范围50-800℃,精度±2℃
4. 元素污染分析:二次离子质谱(SIMS)检测杂质含量≤0.1at%
5. 表面粗糙度:原子力显微镜(AFM)测量Ra≤0.5nm
1. III-V族半导体材料:GaAs、InP等化合物薄膜
2. 光学镀膜材料:SiO2、Ta2O5等高折射率介质膜
3. 金属导电层:Al、Cu、Au等纯度≥99.999%的电极薄膜
4. 超硬涂层:TiN、CrN等PVD涂层
5. 二维材料:石墨烯过渡层、MoS2润滑膜
1. ASTM F1526-21 电子束蒸发系统性能测试规范
2. ISO 14606:2015 表面化学分析-溅射深度剖析
3. GB/T 31369-2015 太阳电池用透明导电氧化物薄膜规范
4. GB/T 38823-2020 硬质涂层结合强度测定方法
5. ISO 21283:2018 纳米颗粒尺寸分布的扫描电镜测定法
1. Denton Vacuum Discovery 635电子束蒸发系统:配备10kW电子枪和四工位坩埚
2. Veeco Dektak XTL台阶仪:垂直分辨率0.1Å,扫描长度100mm
3. Thermo Scientific Nexsa G2 XPS:单色Al Kα光源,空间分辨率7.5μm
4. Bruker Dimension Icon原子力显微镜:ScanAsyst模式自动优化扫描参数
5. Keithley 4200A-SCS参数分析仪:支持IV/CV/脉冲模式薄膜电学测试
6. Malvern Panalytical Empyrean XRD:配置高温附件(1200℃)
7. Agilent 8900 ICP-MS:检出限达ppt级金属杂质分析
8. ZEISS Crossbeam 550 FIB-SEM:5nm分辨率双束系统
9. MTS Nanoindenter G200:连续刚度测量模量精度±3%
10. Ulvac PHI 710 Auger谱仪:纳米级纵向成分分析能力
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"电子轰击蒸发检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
专业分析各类金属、非金属材料的成分、结构与性能,提供全面检测报告和解决方案。包括金属材料力学性能测试、高分子材料老化试验、复合材料界面分析等。
精准检测各类化工产品的成分、纯度及物理化学性质,确保产品质量符合国家标准。服务涵盖有机溶剂分析、催化剂表征、高分子材料分子量测定等。
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