1. 晶粒尺寸测定:测量范围0.1-500μm,精度±0.05μm(SEM法)
2. 晶体取向偏差分析:EBSD技术测定角度偏差≤0.5°
3. 相含量定量检测:XRD法定量精度达±0.3wt%
4. 位错密度计算:TEM法分辨率达1×10⁸ cm⁻²
5. 生长速率测试:高温原位观测系统精度±0.01μm/s
1. 半导体材料:单晶硅、砷化镓等III-V族化合物
2. 金属合金:镍基高温合金、钛铝合金
3. 陶瓷材料:氧化锆结构陶瓷、氮化硅功能陶瓷
4. 光学晶体:蓝宝石衬底、氟化钙光学元件
5. 聚合物晶体:聚乙烯单晶薄膜、聚丙烯球晶
1. ASTM E112-13:晶粒尺寸测定标准方法
2. ISO 24173:2009:电子背散射衍射取向分析规范
3. GB/T 13298-2015:金属显微组织检验方法
4. ISO 22278:2020:陶瓷材料相含量XRD定量规程
5. GB/T 38714-2020:高温合金显微组织评定标准
1. 蔡司场发射扫描电镜Gemini 500:配备EBSD探测器
2. 布鲁克X射线衍射仪D8 Advance:配备高温样品台
3. FEI透射电镜Tecnai G2 F30:双倾样品杆配置
4. 日立热场发射电镜SU9000:分辨率0.4nm@30kV
5. 耐驰同步热分析仪STA 449 F5:最高温度1600℃
6. 牛津仪器能谱仪X-MaxN 150:探测面积150mm²
7. 岛津电子探针EPMA-1720H:波长分辨率5eV
8. 安东帕高温显微镜Leica DM4M:最高温度1500℃
9. 马尔文激光粒度仪Mastersizer 3000:测量范围0.01-3500μm
10. 基恩士三维轮廓仪VR-5000:垂直分辨率1nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与晶体长大法检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。