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光点扫描比检测

  • 原创官网
  • 2025-05-13 23:12:34
  • 关键字:光点扫描比测试标准,光点扫描比测试方法,光点扫描比测试范围
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光点扫描比检测概述:光点扫描比检测是通过高精度光学系统对材料表面或内部结构进行非接触式量化分析的技术手段。核心检测参数包括光斑分辨率(0.1-10μm)、扫描重复性(±0.5%)、动态范围(60dB)及信噪比(≥40dB),适用于半导体、精密光学元件等领域的缺陷定位与形貌表征。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1.光斑直径测量:激光束质量分析(M≤1.3),发散角测试(0.1-5mrad)

2.扫描线性度校准:X/Y轴位移精度(0.1μm/100mm),非线性误差<0.05%

3.反射率梯度检测:动态范围60dB@532nm,灵敏度0.1%反射率差异

4.三维形貌重建:Z轴分辨率0.01μm(20X物镜),采样频率200kHz

5.缺陷识别分析:最小可检缺陷尺寸0.2μm(NA=0.95),分类准确率≥99.7%

检测范围

1.光学薄膜:AR/IR镀膜层厚度(50-500nm)、膜层均匀性(<1%)

2.半导体晶圆:12英寸硅片表面颗粒(≥0.12μm)、刻蚀深度(5-200μm)

3.微电子封装:BGA焊球共面性(15μm)、金线弧度(25-50μm)

4.精密模具:V型槽角度公差(0.05)、表面粗糙度Ra0.01-0.8μm

5.生物医疗器件:微流控通道尺寸(50-500μm)、药物涂层厚度(1-20μm)

检测方法

ASTME2544-11a:激光扫描共焦显微镜校准规范(XYZ轴定位精度验证)

ISO25178-602:非接触式光学三维测量系统性能验证方法

GB/T34879-2017:微纳米尺度几何量测量仪器校准规范

GB/T26194-2010:扫描电子显微镜能谱仪分析方法通则

ISO14978:2018:几何产品规范(GPS)测量设备通用要求

检测设备

1.KeyenceVK-X3000:3D激光显微系统,配备405nm紫色激光(120nm横向分辨率)

2.ZeissLSM900:共聚焦显微镜系统,支持多光子成像(Z轴步进精度10nm)

3.OlympusDSX1000:数字显微镜系统,具备景深扩展功能(23倍动态范围)

4.BrukerContourGT-X3:白光干涉仪,垂直分辨率0.1nm(100XMirau物镜)

5.NikonNEXIVVMZ-S656F:视频测量系统,双远心光学设计(0.5μm/m精度)

6.MitutoyoQuickVisionPro:光学影像仪,配备环形LED光源(20481536像素CCD)

7.HexagonOptivPerformance443:多传感器测量机,集成接触式探针与激光扫描头

8.SensofarSneox:3D光学轮廓仪,采用PSI/VSI混合测量技术(0.01nm垂直分辨率)

9.CyberTechnologiesCT500:X射线断层扫描系统(微焦点源1-5μm焦点尺寸)

10.AliconaInfiniteFocusG5:变焦光学三维测量系统(20nm垂直分辨率)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与光点扫描比检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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