透射电镜术检测

检测项目1.晶体结构分析:晶格分辨率≤0.1nm,选区电子衍射(SAED)角度精度0.012.元素分布表征:能量色散X射线谱(EDS)探测限≤0.1wt%,面扫描分辨率5nm3.缺陷形态观测:位错密度检测范围10-10⁰cm⁻,层错能测量误差5%4.界面结构解析:界面粗糙度测量精度0.2nm,晶界偏析层厚度分辨率1nm5.纳米颗粒分析:粒径分布统计范围1-200nm,形状因子计算误差≤3%检测范围1.金属材料:铝合金时效析出相、高温合金γ'相分布、钛合金α/β相界面结构2.半导体器件:硅基外延层缺陷、I

原创阅读 492025-05-15工程师CMACNASISO高新技术企业

检测项目

1.晶体结构分析:晶格分辨率≤0.1nm,选区电子衍射(SAED)角度精度0.01

2.元素分布表征:能量色散X射线谱(EDS)探测限≤0.1wt%,面扫描分辨率5nm

3.缺陷形态观测:位错密度检测范围10-10⁰cm⁻,层错能测量误差5%

4.界面结构解析:界面粗糙度测量精度0.2nm,晶界偏析层厚度分辨率1nm

5.纳米颗粒分析:粒径分布统计范围1-200nm,形状因子计算误差≤3%

检测范围

1.金属材料:铝合金时效析出相、高温合金γ'相分布、钛合金α/β相界面结构

2.半导体器件:硅基外延层缺陷、III-V族化合物界面失配位错、量子点尺寸分布

3.纳米材料:碳纳米管手性指数测定、金属纳米颗粒晶面指数标定、二维材料层间堆垛分析

4.生物样品:病毒衣壳蛋白组装结构、细胞器超微形态观察、生物矿化晶体取向分析

5.高分子材料:嵌段共聚物微相分离结构、聚合物结晶片层厚度测量、纳米复合材料界面结合状态

检测方法

ASTME2090-19:透射电镜系统校准规范(含放大倍率校准与衍射标定)

ISO25498:2018:微区电子衍射分析方法(含菊池线标定程序)

GB/T28871-2012:电子显微镜X射线能谱分析方法通则

GB/T35033-2018:纳米材料透射电子显微镜表征方法指南

ISO21363:2020:纳米颗粒尺寸分布的TEM测定方法

检测设备

JEOLJEM-ARM300F:冷场发射枪,球差校正系统,信息分辨率0.08nm

ThermoFisherTalosF200X:SuperXEDS系统,STEM分辨率0.16nm

HitachiHT7800:120kV高对比度模式,配备双倾旋转样品台

FEITitanG260-300:单色器配置单原子分辨率成像能力

ZeissLibra200MC:能量过滤系统(EFTEM),零损失峰能量分辨率0.7eV

JEOLJEM-2100Plus:LaB6灯丝系统,配备高速CCD相机(4k4k像素)

TecnaiG2F20S-TWIN:场发射枪STEM模式分辨率0.19nm

HitachiHF5000:冷场发射枪+四极杆-八极杆物镜系统

NionUltraSTEM200:第五代球差校正器,可实现亚埃级分辨率

FEITecnaiSpirit:生物专用低剂量成像系统(剂量控制≤5e⁻/)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

QUALIFICATIONS

旗下实验室 · 资质荣誉

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