成分偏析度测定
主元素浓度梯度:±0.05wt%测量精度
杂质元素分布:检测限≤10ppm
界面扩散系数:10⁻¹⁴~10⁻¹⁸ m²/s
热力学稳定性测试
相变温度范围:RT-1600℃
吉布斯自由能变化:±5kJ/mol
临界冷却速率:0.1-100℃/s
微观结构表征
晶界偏析层厚度:0.1-500nm
析出相尺寸分布:5nm-50μm
位错密度:10⁶-10¹² cm⁻²
抑制剂效能评估
元素分配系数:K=0.01-100
界面吸附能:0.1-5eV
扩散抑制率:≥95%
动态偏析模拟
温度梯度:0-500℃/cm
凝固速率:0.01-10mm/s
溶质再分配系数:0.1-10
金属合金体系:铝合金(AA6061/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)、高温合金(Inconel 718)
高分子复合材料:聚丙烯/碳纤维(CF/PP)、环氧树脂/石墨烯(EP/GE)
陶瓷材料:氮化硅(Si₃N₄)、氧化锆(3Y-TZP)
电子材料:焊锡合金(SAC305)、磁记录薄膜(CoCrPt-SiO₂)
粉末冶金材料:硬质合金(WC-Co)、金属注射成型(MIM 316L)
EPMA电子探针分析(ISO 22309:2011)
元素面分布分析:步长0.1μm,加速电压15kV
TOF-SIMS深度剖析(ASTM E1504-11)
三维成分成像:深度分辨率2nm/层
DSC-TGA联用分析(ISO 11358:2022)
相变焓值测量:±0.1mW灵敏度
APT原子探针层析(ASTM E2859-21)
三维原子重构:质量分辨率m/Δm≥1000
HRTEM高分辨电镜(ISO 25498:2018)
晶格像分辨率:0.14nm @200kV
JXA-8530F电子探针(日本电子)
配备5道WDS光谱仪,可检测B-U元素
PHI nanoTOF II飞行时间二次离子质谱
空间分辨率≤50nm,质量范围1-10000amu
NETZSCH STA 449 F5同步热分析仪
温度精度±0.1℃,气氛控制精度±0.02%
LEAP 5000 XR原子探针
检测效率≥5×10⁶ ions/min,三维重构精度0.2nm
FEI Titan G2 60-300球差校正电镜
信息极限0.07nm,配备SuperX EDS系统
获得CNAS(注册号详情请咨询工程师)和CMA(编号详情请咨询工程师)双认证资质,检测报告国际互认
配备10⁻¹¹ mbar超高真空系统,确保表面敏感型测试数据可靠性
建立基于CALPHAD方法的偏析预测模型,误差率≤3%
拥有ISO/IEC 17025:2017完整管理体系,数据不确定度评估符合JJF 1059.1规范
开发专用偏析模拟软件(SegSim 3.0),可预测多组元体系偏析动力学
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与偏析抑制剂测试相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。