短沟效应检测

检测项目1.阈值电压漂移(VthShift):测量50mV精度范围内的电压偏移量2.漏电流变化率(IoffVariation):分辨率达0.1pA/μm的亚阈值漏电监测3.跨导退化(GmDegradation):记录0.01mS/mm量级的跨导值衰减4.迁移率衰减(μeffReduction):采用四探针法测定载流子迁移率变化≥5%5.热载流子注入效应(HCI):施加Vdd1.5倍应力电压进行加速老化测试检测范围1.28nm以下FinFET工艺节点半导体器件2.SOI(绝缘体上硅)基射频集成电路3.GaN

原创阅读 152025-05-19工程师CMACNASISO高新技术企业

检测项目

1.阈值电压漂移(VthShift):测量50mV精度范围内的电压偏移量
2.漏电流变化率(IoffVariation):分辨率达0.1pA/μm的亚阈值漏电监测
3.跨导退化(GmDegradation):记录0.01mS/mm量级的跨导值衰减
4.迁移率衰减(μeffReduction):采用四探针法测定载流子迁移率变化≥5%
5.热载流子注入效应(HCI):施加Vdd1.5倍应力电压进行加速老化测试

检测范围

1.28nm以下FinFET工艺节点半导体器件
2.SOI(绝缘体上硅)基射频集成电路
3.GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)
4.三维堆叠封装TSV互连结构
5.柔性电子用氧化物薄膜晶体管(TFT)

检测方法

1.ASTMF1244-21《半导体器件漏电流测试标准规程》
2.ISO16700:2020《扫描电镜定量分析方法》
3.GB/T16525-2017《半导体集成电路封装可靠性试验方法》
4.JEDECJESD22-A117E《热载流子注入测试规范》
5.IEC60749-34:2021《半导体器件机械与气候试验方法》

检测设备

1.KeysightB1500A半导体参数分析仪:支持DC-IV/CV/脉冲模式测量
2.HitachiSU8200冷场发射扫描电镜:0.8nm@15kV分辨率沟道形貌表征
3.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:PeakForceTapping模式表面电势成像
4.ThermoFisherELITE-TDS瞬态热阻测试系统:μs级时间分辨率热特性分析
5.CascadeSummit12000探针台:支持300mm晶圆级HCI测试
6.Keithley4200-SCS参数分析系统:集成SMU模块的I-V曲线测试
7.AgilentE5270B精密源表:100aA级超低电流测量能力
8.FEITitanG2透射电镜:原子级沟道界面缺陷观测
9.AdvantestT2000SoC测试机:支持32通道并行参数采集
10.OxfordInstrumentsPlasmaPro100刻蚀机:纳米级沟道剖面制备

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

QUALIFICATIONS

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