卤化铪检测概述:检测项目1.总铪含量测定:Hf≥99.5%(以HfX4计),X=Cl/Br/I2.卤素比例分析:Cl:Br:I=1:(0.05-0.3):(0.001-0.01)3.痕量金属杂质:Fe≤50ppm,Al≤30ppm,Zr≤100ppm4.游离卤素含量:Cl₂≤0.1%,Br₂≤0.05%5.晶体结构表征:立方晶系占比≥95%,晶格常数a=5.250.03检测范围1.高纯卤化铪粉末(HfCl4/HfBr4/HfI4)2.光学镀膜用HfX4蒸气沉积材料3.核反应堆控制棒涂层材料4.Ziegler-Natta催
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
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1.总铪含量测定:Hf≥99.5%(以HfX4计),X=Cl/Br/I
2.卤素比例分析:Cl:Br:I=1:(0.05-0.3):(0.001-0.01)
3.痕量金属杂质:Fe≤50ppm,Al≤30ppm,Zr≤100ppm
4.游离卤素含量:Cl₂≤0.1%,Br₂≤0.05%
5.晶体结构表征:立方晶系占比≥95%,晶格常数a=5.250.03
1.高纯卤化铪粉末(HfCl4/HfBr4/HfI4)
2.光学镀膜用HfX4蒸气沉积材料
3.核反应堆控制棒涂层材料
4.Ziegler-Natta催化剂前驱体
5.半导体ALD/CVD工艺源物质
ASTME1941-10:X射线衍射法定量相分析
ISO21587-3:电感耦合等离子体质谱法测定杂质元素
GB/T33042-2016:卤化物中游离卤素的电位滴定法
ASTMD7192-18:热重分析法测定挥发性组分
GB/T14840-2020:激光粒度仪测定粉末粒径分布
ThermoScientificiCAP7400ICP-OES:元素定量分析(检出限0.01ppm)
MalvernMastersizer3000:干湿法粒度测试(0.01-3500μm)
BrukerD8ADVANCEXRD:晶体结构解析(2θ精度0.0001)
MettlerToledoTGA/DSC3+:热稳定性分析(升温速率0.1-100℃/min)
Agilent8890GC-MS:挥发性杂质检测(质量范围1-1100amu)
PerkinElmerLambda1050+UV-Vis:光学透过率测试(波长范围175-3300nm)
SartoriusCubisIIMSA225P-100-DA:微量水分测定(分辨率0.1μg)
JEOLJSM-7900FSEM:表面形貌观测(分辨率0.8nm@15kV)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与卤化铪检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。