真空蒸发检测概述:检测项目1.蒸发速率测定:测量范围0.1-1000g/(mh),精度0.5%2.膜层厚度分析:分辨率0.1nm(X射线反射法),量程10nm-50μm3.表面附着力测试:划痕法临界载荷0.1-100N(ISO20502)4.成分纯度检测:二次离子质谱(SIMS)检出限1ppm5.热稳定性评估:温度范围25-1500℃,升温速率0.1-50℃/min检测范围1.金属薄膜材料:铝(Al)、铜(Cu)、金(Au)等蒸镀薄膜2.光学镀膜元件:增透膜、反射镜、滤光片等光学器件3.半导体器件:OLED电极层、集成电路
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
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1.蒸发速率测定:测量范围0.1-1000g/(mh),精度0.5%
2.膜层厚度分析:分辨率0.1nm(X射线反射法),量程10nm-50μm
3.表面附着力测试:划痕法临界载荷0.1-100N(ISO20502)
4.成分纯度检测:二次离子质谱(SIMS)检出限1ppm
5.热稳定性评估:温度范围25-1500℃,升温速率0.1-50℃/min
1.金属薄膜材料:铝(Al)、铜(Cu)、金(Au)等蒸镀薄膜
2.光学镀膜元件:增透膜、反射镜、滤光片等光学器件
3.半导体器件:OLED电极层、集成电路金属布线层
4.高分子阻隔涂层:食品包装用AlOx/SiOx复合膜
5.医疗器械镀层:骨科植入物羟基磷灰石涂层
ASTMB928-15:金属蒸发沉积层盐雾腐蚀试验方法
ISO1463-2021:金属镀层厚度X射线光谱测定法
GB/T1771-2007:色漆和清漆耐中性盐雾性能测定
ISO20502-2016:精细陶瓷薄膜界面结合强度划痕试验法
GB/T23446-2009:真空镀膜层结合强度试验方法
1.UlvacVPC-1100真空蒸发镀膜机:极限真空度510⁻⁶Pa,基板加热温度600℃
2.FilmetricsF20膜厚测量仪:光谱范围190-1700nm,重复精度0.3nm
3.CSMRevetest划痕测试仪:最大载荷200N,声发射信号采样率100kHz
4.ThermoScientificK-AlphaXPS系统:空间分辨率3μm,能量分辨率0.5eV
5.NetzschSTA449F3同步热分析仪:TG分辨率0.1μg,DSC灵敏度1μW
6.Agilent7900ICP-MS:质量范围2-260amu,检出限ppt级
7.VeecoDektakXT轮廓仪:垂直分辨率0.1,扫描长度55mm
8.Loresta-GXMCP-T700四探针电阻仪:量程10⁻~10⁶Ω/sq,温度控制0.1℃
9.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:XY分辨率0.2nm,Z轴噪声<0.05nm
10.PfeifferVacuumHPT200质谱检漏仪:灵敏度510⁻mbarL/s
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与真空蒸发检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。