检测项目

1.纯度测定:采用化学滴定法测定CuX(X=Cl,Br,I)主成分含量,精度0.5%

2.卤素含量分析:离子色谱法测定Cl⁻/Br⁻/I⁻比例偏差值,检出限≤5ppm

3.晶体结构表征:X射线衍射(XRD)分析晶型纯度,角度范围5-80(2θ)

4.热稳定性测试:热重分析(TGA)测定分解温度点(DTG峰值2℃)

5.粒度分布检测:激光粒度仪测量D50值范围0.1-50μm

检测范围

1.电子材料:印刷电路板(PCB)用氯化亚铜镀层材料

2.催化剂:有机合成反应用溴化亚铜催化剂颗粒

3.光学材料:红外窗口材料碘化亚铜单晶

4.医药中间体:药物合成用高纯氯化亚铜原料

5.工业原料:染料敏化太阳能电池用亚铜盐前驱体

检测方法

1.ASTME394-00:卤素含量测定-X射线荧光光谱法(XRF)

2.ISO20565-3:2008:铜化合物化学分析-电位滴定法

3.GB/T23413-2009:纳米材料晶体结构-X射线衍射法

4.GB/T23942-2009:化学试剂电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)

5.ISO13320:2020:激光衍射法粒度分析通则

检测设备

1.原子吸收光谱仪(PerkinElmerPinAAcle900T):金属杂质定量分析(检出限0.01ppm)

2.X射线衍射仪(RigakuSmartLabSE):晶体结构解析(分辨率≤0.02)

3.电感耦合等离子体质谱仪(ThermoScientificiCAP7400):痕量元素测定(精度1%)

4.热重分析仪(TAInstrumentsTGA550):分解温