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概述:检测项目1.纯度测定:采用化学滴定法测定CuX(X=Cl,Br,I)主成分含量,精度0.5%2.卤素含量分析:离子色谱法测定Cl⁻/Br⁻/I⁻比例偏差值,检出限≤5ppm3.晶体结构表征:X射线衍射(XRD)分析晶型纯度,角度范围5-80(2θ)4.热稳定性测试:热重分析(TGA)测定分解温度点(DTG峰值2℃)5.粒度分布检测:激光粒度仪测量D50值范围0.1-50μm检测范围1.电子材料:印刷电路板(PCB)用氯化亚铜镀层材料2.催化剂:有机合成反应用溴化亚铜催化剂颗粒3.光学材料:红外窗口材料碘化
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
1.纯度测定:采用化学滴定法测定CuX(X=Cl,Br,I)主成分含量,精度0.5%
2.卤素含量分析:离子色谱法测定Cl⁻/Br⁻/I⁻比例偏差值,检出限≤5ppm
3.晶体结构表征:X射线衍射(XRD)分析晶型纯度,角度范围5-80(2θ)
4.热稳定性测试:热重分析(TGA)测定分解温度点(DTG峰值2℃)
5.粒度分布检测:激光粒度仪测量D50值范围0.1-50μm
1.电子材料:印刷电路板(PCB)用氯化亚铜镀层材料
2.催化剂:有机合成反应用溴化亚铜催化剂颗粒
3.光学材料:红外窗口材料碘化亚铜单晶
4.医药中间体:药物合成用高纯氯化亚铜原料
5.工业原料:染料敏化太阳能电池用亚铜盐前驱体
1.ASTME394-00:卤素含量测定-X射线荧光光谱法(XRF)
2.ISO20565-3:2008:铜化合物化学分析-电位滴定法
3.GB/T23413-2009:纳米材料晶体结构-X射线衍射法
4.GB/T23942-2009:化学试剂电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)
5.ISO13320:2020:激光衍射法粒度分析通则
1.原子吸收光谱仪(PerkinElmerPinAAcle900T):金属杂质定量分析(检出限0.01ppm)
2.X射线衍射仪(RigakuSmartLabSE):晶体结构解析(分辨率≤0.02)
3.电感耦合等离子体质谱仪(ThermoScientificiCAP7400):痕量元素测定(精度1%)
4.热重分析仪(TAInstrumentsTGA550):分解温
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"卤化亚铜检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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精准检测各类化工产品的成分、纯度及物理化学性质,确保产品质量符合国家标准。服务涵盖有机溶剂分析、催化剂表征、高分子材料分子量测定等。
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