半导体成分试验

半导体成分试验主要针对晶圆、芯片、封装材料及相关辅材中的元素组成、化学组分、杂质含量与表面污染情况进行分析,用于识别材料特性、评估工艺稳定性、辅助失效研判并支持质量控制,检测内容覆盖基体成分、掺杂元素、微量杂质、残留物及界面物质等关键项目。

原创阅读 02026-03-26工程师CMACNASISO高新技术企业

检测项目

1.基体元素分析:硅含量测定,锗含量测定,镓含量测定,砷含量测定,碳含量测定。

2.掺杂元素分析:硼含量测定,磷含量测定,砷掺杂量测定,锑含量测定,铟含量测定。

3.金属杂质分析:铁含量测定,铜含量测定,镍含量测定,铬含量测定,铝含量测定。

4.非金属杂质分析:氧含量测定,氮含量测定,氯残留测定,氟残留测定,硫含量测定。

5.痕量元素分析:钠含量测定,钾含量测定,钙含量测定,镁含量测定,锌含量测定。

6.表面污染物分析:离子污染物测定,有机残留物测定,颗粒附着物分析,表面金属沾污分析,清洗残留物分析。

7.薄膜成分分析:氧化层成分分析,氮化层成分分析,金属薄膜成分分析,介质层成分分析,复合膜层组成分析。

8.封装材料成分分析:塑封料组成分析,引线框架材质分析,焊料成分分析,键合材料成分分析,底部填充材料分析。

9.有机材料组分分析:光刻胶成分分析,显影残留物分析,助焊材料组分分析,粘结剂成分分析,溶剂残留分析。

10.界面物质分析:界面氧化物分析,扩散层成分分析,反应产物分析,腐蚀产物分析,沉积物成分分析。

11.失效相关成分分析:异常沉积物分析,烧蚀残留物分析,裂纹区域污染物分析,电迁移产物分析,漏电相关杂质分析。

12.材料纯度分析:主成分纯度测定,杂质总量评估,微量污染物筛查,批次成分一致性分析,来料成分符合性分析。

检测范围

硅晶圆、外延片、芯片裸片、集成电路、功率器件、分立器件、存储器芯片、传感器芯片、发光芯片、射频芯片、封装体、塑封料、引线框架、焊球、焊线、键合材料、底部填充材料、光刻胶、电子特气残留物、清洗后表面残留物

检测设备

1.电感耦合等离子体发射光谱仪:用于测定半导体材料中多种金属元素和部分非金属元素含量,适合常量与微量成分分析。

2.电感耦合等离子体质谱仪:用于痕量和超痕量元素检测,可识别多种杂质元素,适用于高纯材料成分筛查。

3.射线光电子能谱仪:用于分析材料表面元素组成及化学状态,适合薄膜、界面层和表面污染物研究。

4.二次离子质谱仪:用于表层及深度方向成分分析,可检测掺杂元素分布、杂质分布和界面元素变化。

5.射线荧光光谱仪:用于固体样品中元素组成的快速筛查,适合封装材料、金属部件和薄膜样品分析。

6.傅里叶变换红外光谱仪:用于有机材料官能团识别和残留物分析,适合光刻胶、粘结剂及有机污染物测试。

7.拉曼光谱仪:用于表征材料分子结构和晶体特征,可辅助分析硅基材料、薄膜结构和异常沉积物。

8.扫描电子显微镜:用于观察样品表面形貌与微区特征,可配合微区成分分析开展颗粒物和失效部位研究。

9.气相色谱质谱联用仪:用于挥发性和半挥发性有机组分分离与鉴别,适合溶剂残留、清洗残留和有机污染物分析。

10.离子色谱仪:用于测定表面残留中的阴阳离子成分,适合离子污染物和清洗后残留物检测。

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

QUALIFICATIONS

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