检测项目

1.金属杂质分析：钠含量，钾含量，铁含量，铜含量，镍含量，锌含量，铝含量，钙含量

2.痕量元素检测：痕量硼，痕量磷，痕量砷，痕量锑，痕量铅，痕量铬，痕量锰，痕量钛

3.颗粒污染检测：颗粒数量，颗粒粒径分布，表面颗粒密度，微粒附着状态，异常颗粒识别，大颗粒缺陷统计

4.离子杂质检测：氯离子，氟离子，硫酸根，硝酸根，铵根，钠离子，钾离子，钙离子

5.有机残留检测：溶剂残留，清洗剂残留，光刻胶残留，表面有机膜残留，挥发性有机物残留，非挥发性有机物残留

6.表面污染分析：表面洁净度，局部污染分布，污染覆盖程度，表面残膜分析，污点成分分析，污染区域定位

7.薄膜杂质检测：氧含量异常，碳含量异常，氮含量异常，薄膜夹杂，沉积污染，界面杂质分布

8.晶圆微区成分分析：微区元素组成，异常点成分识别，缺陷区杂质定位，边缘区域污染分析，中心区域成分均匀性

9.封装材料杂质检测：封装界面污染，焊接区域杂质，键合区异物，塑封料残留杂质，引线框架表面污染

10.腐蚀与残蚀分析：腐蚀产物成分，残蚀物成分，蚀刻后残留，局部腐蚀污染，腐蚀区域元素分布

11.失效相关杂质排查：异常导电残留，漏电相关污染，短路异物分析，开路区域污染排查，失效点杂质识别

12.工艺介质污染检测：超纯水残留污染，化学处理液带入杂质，气相沉积污染，清洗过程二次污染，转运过程异物污染

检测范围

硅晶圆、外延片、裸芯片、切割芯片、集成电路芯片、功率芯片、传感芯片、存储芯片、逻辑芯片、模拟芯片、射频芯片、封装芯片、晶圆边缘样品、芯片表面残留物、封装界面样品、键合区域样品、引线框架样品、焊点样品、塑封材料样品、工艺沉积薄膜样品

检测设备

1.电感耦合等离子体质谱仪：用于痕量金属元素和超低含量杂质分析，适合多元素同步检测。

2.电感耦合等离子体发射光谱仪：用于常量及微量金属元素测定，可进行多元素定量分析。

3.离子色谱仪：用于阴离子和阳离子杂质分离与测定，适合表面提取液和工艺残留分析。

4.扫描电子显微镜：用于观察颗粒形貌、表面污染状态和微区缺陷特征，可辅助异常区域定位。

5.能谱分析仪：用于微区元素组成分析，适合颗粒异物、残留物及局部污染成分识别。

6.飞行时间二次离子质谱仪：用于表面及浅层杂质成分分析，可实现微区分布表征和深度信息获取。

7.气相色谱质谱联用仪：用于挥发性和半挥发性有机残留检测，适合溶剂与清洗残留分析。

8.液相色谱仪：用于非挥发性有机污染物分离检测，适合复杂有机残留分析。

9.原子力显微镜：用于芯片表面微观形貌和污染附着状态观察，可评估局部表面异常。

10.颗粒计数分析仪：用于颗粒数量统计与粒径分布分析，适合洁净度和微粒污染评估。