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2025-03-31 11:49:24概述：高纯金属检测是确保材料性能与可靠性的关键环节，主要针对纯度、痕量杂质及物理特性进行精准分析。核心检测项目包括元素含量测定、晶格缺陷评估及表面污染控制等，需结合光谱分析、质谱技术及微观表征方法。本文系统阐述检测标准、设备及适用范围，为科研与工业质量控制提供参考依据。
注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试，望谅解(高校、研究所等性质的个人委托除外)。
因篇幅原因，CMA/CNAS/ISO证书以及未列出的项目/样品，请咨询在线工程师。
1.纯度分析：测定主元素含量（99.99%-99.9999%），采用差减法计算杂质总量
2.痕量元素检测：检出限达0.01ppm（Cd、As、Pb等14种管控元素）
3.晶粒尺寸测定：测量范围50nm-500μm（EBSD法）
4.氧氮氢分析：氧含量≤5ppm（惰性熔融红外法）
5.表面粗糙度：Ra≤0.1μm（白光干涉仪测量）
6.电阻率测试：四探针法测量精度0.5nΩm
1.半导体级金属：6N以上纯度单晶硅锭、锗片等
2.溅射靶材：铜、铝、钛等纯度≥99.995%的PVD镀膜材料
3.超导材料：铌钛合金（Ti含量44-48wt%）
4.核工业用金属：锆合金包壳管（Hf≤100ppm）
5.高纯金属粉末：球形钛粉（粒径D50=15-45μm）
6.贵金属催化剂：铂碳催化剂（Pt负载量5-60wt%）
1.ICP-MS法（ASTME1479）：多元素同步分析（ppb级）
2.GDMS辉光放电质谱（ISO22033）：体材料杂质深度剖析
3.XRF荧光光谱（GB/T16597）：主成分快速筛查
4.惰性气体熔融法（GB/T4324）：氧氮氢联测系统
5.TEM透射电镜（ISO25498）：纳米级晶格缺陷表征
6.SIMS二次离子质谱（ASTME1504）：表面污染层分析
1.ThermoFisheriCAPTQICP-MS：三重四极杆质谱系统（检出限0.1ppt）
2.Agilent7900ICP-MS：四极杆质量过滤器（质量范围2-260amu）
3.BrukerG8GALILEO氧氮氢分析仪：脉冲加热温度≥3000℃
4.CamecaIMS7f-AutoSIMS：空间分辨率≤50nm
5.JEOLJXA-8530F电子探针：波长色散谱仪（加速电压0-30kV）
6.ZygoNewView9000白光干涉仪：垂直分辨率0.1nm
7.OxfordInstrumentsAZtecEBSD系统：Hough分辨率≥70
8.PerkinElmerNexION2000ICP-MS：三锥接口设计（耐高基体）
9.HitachiSU9000场发射电镜：分辨率0.4nm@15kV
10.PANalyticalAxiosMAXXRF：4kW超尖锐端窗X光管
报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期：7~15工作日，可加急。
资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试：支持定制化试验方案。
售后：报告终身可查，工程师1v1服务。
以上是与"高纯金属检测"相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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