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超高真空外延技术检测

  • 原创官网
  • 2025-04-01 11:41:39
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超高真空外延技术检测概述:超高真空外延技术检测是评估薄膜生长质量与工艺稳定性的关键环节,涵盖残余气体分析、晶体结构表征及界面缺陷检测等核心内容。通过标准化方法及精密设备验证材料成分、厚度均匀性及表面粗糙度等参数,确保外延层性能满足半导体、光电子等领域的高精度需求。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1.残余气体分析(RGA):压力范围≤110-9Torr,质谱扫描范围1-300amu。

2.薄膜厚度测量:精度0.1nm,测量范围1nm-10μm。

3.表面粗糙度检测:原子力显微镜(AFM)分辨率0.1nmRMS。

4.晶体取向与缺陷分析:X射线衍射(XRD)角度分辨率0.001。

5.成分均匀性测试:二次离子质谱(SIMS)检出限≤11015atoms/cm3

6.界面结合强度:纳米压痕法载荷范围0.1-500mN。

检测范围

1.III-V族半导体外延层(如GaAs、InP)。

2.二维材料异质结(如石墨烯/氮化硼)。

3.氧化物薄膜(如Al2O3、HfO2)。

4.超导薄膜(如YBCO、MgB2)。

5.金属有机外延(MOCVD)生长的LED结构层。

检测方法

1.ASTME112-13:晶粒度测定标准。

2.ISO14707:2015:辉光放电光谱成分分析。

3.GB/T16594-2008:微米级薄膜厚度测量方法。

4.ISO15472:2010:X射线光电子能谱表面分析。

5.GB/T19588-2017:纳米压痕硬度测试规范。

检测设备

1.HidenHAL501残余气体分析仪:四极杆质谱系统,灵敏度10-14Torr。

2.BrukerDektakXT探针轮廓仪:垂直分辨率0.01nm。

3.ParkNX20原子力显微镜:非接触模式扫描精度0.15nm。

4.RigakuSmartLabX射线衍射仪:高分辨HRXRD模式最小步长0.0001。

5.ThermoScientificNexsaG2XPS:单色化AlKα光源,能量分辨率0.5eV。

6.Agilent8800三重四极杆ICP-MS:检出限低至ppt级。

7.ZEISSCrossbeam550聚焦离子束电镜:定位切割精度5nm。

8.KeysightNanoIndenterG200:动态接触模量测量范围1MPa-1TPa。

9.OxfordInstrumentsPlasmaPro100RIE:等离子体密度控制精度2%.

10.VeecoDimensionIcon扫描探针显微镜:峰值力轻敲模式力控分辨率10pN.

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与超高真空外延技术检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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