1.残余气体分析(RGA):压力范围≤110-9Torr,质谱扫描范围1-300amu。
2.薄膜厚度测量:精度0.1nm,测量范围1nm-10μm。
3.表面粗糙度检测:原子力显微镜(AFM)分辨率0.1nmRMS。
4.晶体取向与缺陷分析:X射线衍射(XRD)角度分辨率0.001。
5.成分均匀性测试:二次离子质谱(SIMS)检出限≤11015atoms/cm3。
6.界面结合强度:纳米压痕法载荷范围0.1-500mN。
1.III-V族半导体外延层(如GaAs、InP)。
2.二维材料异质结(如石墨烯/氮化硼)。
3.氧化物薄膜(如Al2O3、HfO2)。
4.超导薄膜(如YBCO、MgB2)。
5.金属有机外延(MOCVD)生长的LED结构层。
1.ASTME112-13:晶粒度测定标准。
2.ISO14707:2015:辉光放电光谱成分分析。
3.GB/T16594-2008:微米级薄膜厚度测量方法。
4.ISO15472:2010:X射线光电子能谱表面分析。
5.GB/T19588-2017:纳米压痕硬度测试规范。
1.HidenHAL501残余气体分析仪:四极杆质谱系统,灵敏度10-14Torr。
2.BrukerDektakXT探针轮廓仪:垂直分辨率0.01nm。
3.ParkNX20原子力显微镜:非接触模式扫描精度0.15nm。
4.RigakuSmartLabX射线衍射仪:高分辨HRXRD模式最小步长0.0001。
5.ThermoScientificNexsaG2XPS:单色化AlKα光源,能量分辨率0.5eV。
6.Agilent8800三重四极杆ICP-MS:检出限低至ppt级。
7.ZEISSCrossbeam550聚焦离子束电镜:定位切割精度5nm。
8.KeysightNanoIndenterG200:动态接触模量测量范围1MPa-1TPa。
9.OxfordInstrumentsPlasmaPro100RIE:等离子体密度控制精度2%.
10.VeecoDimensionIcon扫描探针显微镜:峰值力轻敲模式力控分辨率10pN.
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与超高真空外延技术检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。