1. 平均晶粒尺寸:测量范围0.1-500μm,误差≤±2%
2. 晶界角度分布:统计5°-62°范围内大角度/小角度晶界比例
3. 三维取向差分析:EBSD采集步长0.05-5μm,取向分辨率<0.5°
4. 晶粒形状因子:计算等效圆直径与长宽比(1.0-5.0)
5. 孪晶密度测定:单位面积内退火孪晶数量(1×10³-1×10⁶/mm²)
1. 金属材料:铝合金(AA6061/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)
2. 陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、碳化硅(SiC)烧结体
3. 半导体材料:单晶硅(Si)、砷化镓(GaAs)基片
4. 高温合金:镍基超合金(Inconel 718/625)
5. 粉末冶金材料:硬质合金(WC-Co)、金属注射成型件
1. ASTM E112-13:金相法测定平均晶粒度
2. ISO 17765:2016:电子背散射衍射(EBSD)三维重构技术
3. GB/T 6394-2017:金属平均晶粒度测定方法
4. ASTM E2627-13:电子通道衬度成像(ECCI)分析缺陷
5. GB/T 13298-2015:金属显微组织检验通则
1. FEI Nova NanoSEM 450:场发射扫描电镜,分辨率0.8nm@15kV
2. Oxford Symmetry S2:电子背散射衍射系统,最大采集速率4000点/秒
3. Bruker D8 Discover:X射线衍射仪,角度重复性±0.0001°
4. Zeiss Axio Imager.M2m:自动金相显微镜,最大放大倍数1500×
5. Shimadzu HMV-G21:显微硬度计,载荷范围10gf-2kgf
6. Leica EM TXP:精密离子研磨仪,最小加工精度50nm
7. Gatan 656:电解抛光仪,电压调节范围0-100V DC
8. Thermo Scientific APEX™ CT:微焦点CT系统,空间分辨率0.5μm
9. JEOL JEM-ARM300F:球差校正透射电镜,点分辨率0.08nm
10. Keyence VHX-7000:三维数码显微镜,景深扩展功能20mm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与多面体晶粒检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。