1. 晶格畸变率测定:测量界面区域晶格常数偏差值(±0.02Å)
2. 界面能分布分析:计算单位面积能量梯度(0.1-5 J/m²)
3. 位错密度检测:采用线扫描法测定位错线密度(10⁶-10⁸ cm/cm³)
4. 电子衍射花样解析:标定异常衍射斑点偏移量(≤0.5°)
5. 元素偏聚度评估:通过EDS测定界面元素浓度梯度(±0.5 at.%)
1. III-V族半导体外延层(GaAs, InP等)
2. 镍基高温合金涡轮叶片
3. 氧化锆基固体电解质陶瓷
4. 钛铝金属间化合物板材
5. 硅基太阳能电池PN结界面
1. ASTM E112-13 晶粒尺寸测定中的电子背散射衍射法
2. ISO 24173:2009 透射电镜电子衍射分析规范
3. GB/T 13305-2008 不锈钢中α-相面积含量测定
4. ASTM F1394-92(2016) 半导体晶界特性测试规程
5. GB/T 38821-2020 钛合金中ω相定量分析方法
1. JEOL JSM-7900F场发射扫描电镜:配备EBSD系统(分辨率0.5nm)
2. Thermo Fisher Talos F200X透射电镜:STEM模式点分辨率0.16nm
3. Bruker D8 Advance X射线衍射仪:配备Eulerian cradle测角仪
4. Oxford Instruments Symmetry EBSD探测器:采集速度3000点/秒
5. Shimadzu EPMA-8050G电子探针:波长分辨率5eV
6. Gatan OneView CMOS相机:4k×4k高速成像系统
7. Zeiss Crossbeam 550聚焦离子束:定位精度±50nm
8. Malvern Panalytical Empyrean XRD:高温附件最高1600℃
9. Hitachi HF5000场发射TEM:信息极限0.1nm
10. KLA Surfscan SP7激光扫描仪:表面粗糙度测量0.1Å RMS
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与反相界缺陷检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。