1. 位错密度测定:测量单位体积内刃型位错线密度(10⁶-10¹² cm⁻²)
2. 位错分布均匀性:统计不同区域位错密度偏差值(≤±15%)
3. 位错取向差角分析:测量相邻晶粒间取向差角(0.5°-15°)
4. 位错壁间距测量:量化相邻位错壁平均间距(50 nm-5 μm)
5. 应力场分布表征:测定位错周围应力集中区域(±200 MPa)
1. 金属结构材料:包括低碳钢(Q235)、不锈钢(316L)、铝合金(6061-T6)等
2. 高温合金材料:镍基合金(Inconel 718)、钴基合金(Stellite 6)等
3. 钛合金材料:TC4(Ti-6Al-4V)、TA15(Ti-6.5Al-1Mo-1V-2Zr)等
4. 半导体单晶材料:单晶硅(<100>)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(4H-SiC)等
5. 金属基复合材料:碳化硅颗粒增强铝基复合材料(SiCp/Al)
1. ASTM E112-13:标准晶粒度测定方法中的位错密度计算法
2. ISO 25498:2018:微束分析-电子背散射衍射取向分析方法
3. GB/T 13298-2015:金属显微组织检验方法中的侵蚀法观测规程
4. GB/T 38885-2020:透射电子显微镜分析金属亚结构技术规范
5. ISO 24173:2009:电子衍射花样标定与晶体取向分析标准
1. FEI Nova NanoSEM 450场发射扫描电镜:配备EBSD探测器(分辨率≤0.1μm)
2. JEOL JEM-2100F场发射透射电镜:配备Gatan Orius SC200相机(点分辨率0.19nm)
3. Bruker D8 ADVANCE X射线衍射仪:配备Eulerian cradle测角仪(角度精度±0.0001°)
4. Oxford Instruments Symmetry EBSD探测器:空间分辨率达2nm(工作距离5mm时)
5. Gatan 656精密离子减薄仪:制备TEM样品(减薄速率0.1-5μm/h)
6. Leica EM TXP精密研磨抛光机:样品表面处理粗糙度Ra≤0.02μm
7. Shimadzu HMV-G21显微硬度计:加载力范围10gf-2000gf(符合ISO6507标准)
8. Zeiss Axio Imager A2m金相显微镜:配备微分干涉对比模块(最大放大倍数1500×)
9. Bruker Dimension Icon原子力显微镜:扫描范围90μm×90μm(Z轴分辨率0.05nm)
10. Thermo Fisher Scios 2 DualBeam聚焦离子束系统:定位精度±10nm(束流范围1pA-65nA)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与刃型位错壁检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。