梯格图检测概述:检测项目1.线宽精度测量:0.1μm@50X物镜2.间距均匀性分析:误差≤0.15μm/10mm3.边缘粗糙度评估:Ra≤0.05μm(取样长度0.8mm)4.阶梯高度测量:分辨率0.01nm(Z轴)5.角度偏差检测:0.1(5-85范围)检测范围1.半导体晶圆光刻图形2.MEMS器件微结构3.PCB基板线路图案4.光学衍射元件周期结构5.金属蚀刻模板栅格阵列检测方法ASTMF1941-21光掩模尺寸测量规程ISO14645:2022微电子器件几何尺寸测量通则GB/T26103-2010纳米级长度测量仪器
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
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1.线宽精度测量:0.1μm@50X物镜
2.间距均匀性分析:误差≤0.15μm/10mm
3.边缘粗糙度评估:Ra≤0.05μm(取样长度0.8mm)
4.阶梯高度测量:分辨率0.01nm(Z轴)
5.角度偏差检测:0.1(5-85范围)
1.半导体晶圆光刻图形
2.MEMS器件微结构
3.PCB基板线路图案
4.光学衍射元件周期结构
5.金属蚀刻模板栅格阵列
ASTMF1941-21光掩模尺寸测量规程
ISO14645:2022微电子器件几何尺寸测量通则
GB/T26103-2010纳米级长度测量仪器校准规范
ISO25178-602:2019非接触式光学轮廓仪校准方法
GB/T3505-2020产品几何技术规范表面结构轮廓法
OlympusLEXTOLS5000激光扫描显微镜:三维形貌重建(120nm横向分辨率)
BrukerContourGT-X8白光干涉仪:0.01nm垂直分辨率
KLATencorP-17+台阶仪:0.02nm接触式高度测量
ZeissAxioCSM700共聚焦显微镜:405nm激光波长(XY分辨率120nm)
KeyenceVHX-7000数字显微镜:20-6000倍连续变倍系统
NikonMM-400测量显微镜:双频激光干涉定位系统(定位精度0.25μm)
TescanMira3SEM电镜:3nm@30kV高真空模式
ZygoNewView9000相位偏移干涉仪:<λ/1000表面粗糙度测量
MitutoyoQuickVisionPro影像测量系统:多光谱LED环形光源配置
ParkSystemsNX20原子力显微镜:非接触模式(Z轴噪声<0.05nm)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与梯格图检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。