1.纯度测定:采用XRD定量分析或化学滴定法测定Cu₂O含量(≥99.5%)
2.粒径分布:激光粒度仪测定D50值(0.5-10μm)及分散系数(PDI≤0.3)
3.晶体结构分析:X射线衍射(XRD)测定晶格常数(a=4.270.02)
4.杂质元素检测:ICP-OES测定Fe、Pb、As等重金属含量(≤50ppm)
5.化学稳定性测试:酸碱溶液浸泡后质量损失率(≤0.5%)
1.半导体行业用高纯氧化亚铜靶材(纯度≥99.99%)
2.光伏电池用纳米级氧化亚铜粉体(粒径≤100nm)
3.防腐涂料中功能性氧化亚铜添加剂(Cu₂O占比30-70%)
4.农药制剂中的抗菌成分氧化亚铜(有效含量≥86%)
5.陶瓷釉料用氧化亚铜着色剂(Fe₂O₃杂质≤0.1%)
ASTME1941-10:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定金属杂质
ISO13320:2020:激光衍射法测定颗粒尺寸分布
GB/T23367-2021:X射线衍射法测定晶体结构参数
GB/T3045-2017:化学滴定法测定氧化亚铜纯度
ISO787-5:2020:颜料耐酸碱性测试通用方法
RigakuSmartLabX射线衍射仪:用于晶体结构分析和物相鉴定
MalvernMastersizer3000激光粒度仪:测量0.01-3500μm粒径分布
PerkinElmerOptima8300ICP-OES:痕量元素检测下限达ppb级
METTLERTGA/DSC3+热重分析仪:测定热稳定性及分解温度(200-400℃)
AgilentCary5000紫外可见分光光度计:光学带隙分析(Eg=2.0-2.2eV)
JEOLJSM-7900F场发射扫描电镜:表面形貌观测(分辨率1nm)
SartoriusCPA225D电子天平:称量精度达0.01mg的精密称量
ThermoScientificiCAPRQICP-MS:超痕量元素分析(检出限≤0.1ppb)
BrukerD8ADVANCEXRD系统:全自动多晶相定量分析
HORIBALabRAMHREvolution拉曼光谱仪:分子振动模式表征
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与氧化亚铜检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。